其產生的物理原理如下：如圖所示，親水性平均值是負的在兩種半無限各向同性介質組成的界面處，介質的介電常數為正實數，金屬的介電常數為實部為負的復數。根據麥克斯韋方程組，可以結合邊界條件和材料特性來計算表面等離子體的場分布和色散特性。一般來說，表面等離子波場的分布具有以下特點。 1.原位分布沿界面高度局域化，呈漸逝波，場分布在金屬中比在介質中更集中。分布深度與波長處于同一數量級。
在簡單情況下的等離子體相對于絕緣的器壁的電勢要高約幾倍的Te/e值，親水性平均值是負的如下圖所示。事實上不單是浮置基板，與等離子體交界的一切絕緣體，均會保持一定的浮置電位，其近旁也會形成離子鞘。結果，浮置電位相對于等離子體往往是負的；或者說等離子體電位相對于任何與之接觸的絕緣體往往是正的。等離子清洗機電極的電位為Vs，改變它使其與等離子體之間有一個電位差，在電極有電流的情況下，電極相對于等離子體的電位可正可負。
事實上，親水性平均值是負的它不僅僅是一個浮動的基板與等離子體界面處的所有絕緣體都將保持一定的浮電位，在其附近形成離子鞘層。結果，相對于等離子體，浮動電位往往是負的。換句話說，等離子電位相對于與其接觸的任何絕緣體而言，往往是正的。等離子體清潔器的電極電位為Vs，改變Vs，使其與等離子體之間存在電位差。當電極有電流時，電極相對于等離子體的電位可以是正的，也可以是負的。
在等離子體對資料外表改性中，親水性平均系數對照表因為等離子體中活性粒子對外表分子的效果，使外表分子鏈斷裂產生新的自由基、雙鍵等活性基團，隨之發作外表交聯、接枝等反響。反響型等離子體是指等離子體中的活性粒子能與難粘資料外表發作化學反響，然后引入很多的極性基團，使資料外表從非極性轉向極性，外表張力提高，可粘接性增強。
親水性平均值是負的
采用 -等離子清洗技術，可除去表面脫模劑、有機物質及無機物，促進材料表面滲透性，改善密封性。等離子清洗工藝能均勻高效地處理三維產品，具有良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業性。尤其適合于不規律產品的表面清潔和活化，在汽車產業、塑膠工業、COG結合工藝等方面也有廣泛的用途。也可用于粘接、錫焊、電鍍前的表面處理。
經處理后的凱夫拉爾表面活性得到增強，附著(果實)效率有明顯提高，通過對等離子體表面處理參數的不斷優化，其附著(果實)效率將進一步提高，應用范圍越來越廣。另外，芳綸纖維復合材料制造后表面應涂環氧清漆和底漆，防止材料因吸潮而失效。
在促進材料表面活性的過程中，小型等離子等離子清洗設備不僅體積小、操作方便，而且具有環保、經濟等優勢。絕對是您選擇設備的最佳選擇。。抗菌（細菌）類藥物廣泛應用于臨床治療（治療），但一些藥物在環境中的殘留也對人類健康構成威脅。近日，中科院合肥物理所研究員黃慶課題組與企業合作，證明利用低溫等離子技術可以快速（有效）降解抗（諾氟沙星） ，土霉素）。發現，四環素等）醫療廢水。生物素）殘留物。
對于內電極等離子清洗系統，由于電極暴露在等離子體中，某些材料的電極會被一些等離子體刻蝕或發生濺射現象，造成不必要的污染并導致電極尺寸的變動，進而影響等離子清洗的速度和均勻性有較大影響，較小的電極間距能夠將等離子體限制在狹小的區域從而獲得較高密度的等離子體，實現較快速度的清洗。隨著間距的增加清洗速度逐漸下降但均勻性逐漸增強。
親水性平均系數對照表
