這是電暈處理和靜電處理，雙氧水對氮化硼表面改性電暈處理設備的電暈處理能力是有限的。因此，出廠前薄膜的最大系數(shù)值通常不超過42達因，電暈處理只會引起薄膜表面的物理變化。這種變化會隨著時間而改變（達因值減小）。實際膠片在印刷廠實際使用時，膠片表面的達因值可能會下降到40達因以下。同樣重要的是，如果打印機需要從薄膜供應商處獲得雙面電暈處理的薄膜，打印機通常會得到單面薄膜，因此薄膜貼在紙上后，表面達因值低，采用等離子噴涂。

典型的等離子體化學清洗工藝是氧等離子體清洗。等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活躍，雙氧水對氮化硼表面改性容易與碳氫化合物反應生成二氧化碳、一氧化碳、水等揮發(fā)性物質(zhì)，從而去除表面污染物。

等離子清洗機是否可以去除表面油污：等離子清洗機、表面改性、蝕刻活化裝置、等離子表面活化/清洗、等離子后鍵合耦合、等離子蝕刻/活化、等離子脫膠、等離子廣泛應用于涂料（在某些情況下） ）。由于等離子灰化和表面改性等等離子處理可以提高材料表面的潤濕性，雙氧水對氮化硼表面改性因此可以對各種材料進行涂層、蝕刻、印刷等，同時去除有機污染物、油和油脂，可以增加粘合強度。

低溫等離子體電源氫等離子體原位清潔硅襯底表面：硅表面清潔技術(shù)由襯底裝人淀積系統(tǒng)之前的非原位表面清潔和外延前在淀積系統(tǒng)中的原位清潔兩部分所組成。目前已在廣泛使用的堿性和酸性雙氧水清洗液能除去沾污在硅片表面的絕大多數(shù)金屬離子及含碳基團，雙氧水對氮化硼表面改性并形成一層幾乎無碳的薄氧化層，這一薄氧化層起著十分重要的作用，它使得由大氣中和系統(tǒng)中的含碳基團對硅表面的沾污降到低限度。。

雙氧水對氮化硼表面改性

與壓力蒸汽滅菌、環(huán)氧乙烷滅菌等傳統(tǒng)滅菌方式相比，過氧化氫等離子滅菌具有滅菌溫度低、滅菌周期短、滅菌后滅菌器無殘留、設備操作簡單、占用空間小、對工作場所條件要求寬松等特點，在一些不耐熱、不耐濕的手術(shù)器械，特別是內(nèi)鏡手術(shù)器械的滅菌中發(fā)揮著不可替代的作用。因此，雙氧水等離子低溫滅菌器受到各級醫(yī)療機構(gòu)的歡迎。

在高頻電場的作用下，氣態(tài)過氧化氫激發(fā)變成等離子態(tài)過氧化氫。蒸汽和等離子結(jié)合使用對臨床醫(yī)療器械進行消毒。雙氧水低溫等離子滅菌器可在低溫（50&PLUSMN；5℃）和低壓條件下對物品進行滅菌，特別適用于對濕熱敏感的醫(yī)療器械的滅菌。過氧化氫等離子滅菌工藝環(huán)保無污染。殺菌過程中散發(fā)出極少的氧氣和水蒸氣，對環(huán)境無害，不需要外部通風或換氣。

蝕刻速度相當快，但在圖案復雜密集的區(qū)域，產(chǎn)生的副產(chǎn)物不易揮發(fā)，而且等離子蝕刻機本身的等離子蝕刻氣體聚合物很重，蝕刻容易在由于該現(xiàn)象和圖案外觀的劣化，需要進一步改進CH4和H2的氣體組合，使其成為工業(yè)上適用的銦磷化蝕刻方法。據(jù)文獻報道，以氯氣為主要刻蝕氣體的磷化銦低溫刻蝕存在著刻蝕速度慢、在低溫條件下副產(chǎn)物難以去除的問題。使用氯氣蝕刻InP對溫度非常敏感，溫度越高，蝕刻速度越快。

但國內(nèi)外文獻并未報道結(jié)前等離子清洗工藝對鈍化膜和芯片電性能的影響。在等離子清洗過程中，以功率、時間、清洗時間為工藝變量，發(fā)現(xiàn)特定芯片的聚酰亞胺鈍化膜的褶皺和電性能現(xiàn)象，明確控制手段，有效。的混合集成電路。清潔工作。等離子清洗對鈍化膜形貌的影響。在線等離子清洗采用自動清洗方式，由于等離子清洗后設備表面干燥，無需再次加工，提高了整條加工線的加工效率，操作人員遠離增加。

雙氧水對氮化硼表面改性

芯片暴露在等離子體中會造成柵極電荷和電應力損傷，表面改性技術(shù)參考文獻而紫外線、高能粒子會造成柵極邊緣氧化損傷[，這些都會影響芯片的性能和長期使用的可靠性。然而，國內(nèi)外尚無文獻報道粘結(jié)前等離子清洗工藝對芯片鈍化膜性能的影響。過程中等離子體清洗、功率、時間和清洗時間作為過程變量,聚酰亞胺鈍化膜起皺和電氣性能的變化找到特定的芯片,和定義的控制措施,可以有效地指導混合集成電路的等離子體清洗工作。等離子體清洗對鈍化膜形態(tài)的影響。

鋁型材是國民經(jīng)濟和國防建設的重要材料之一。對鋁及其合金的表面改性和強化具有重要意義。以往的表面強化方法主要是陽極氧化法。經(jīng)等離子清洗機處理后，雙氧水對氮化硼表面改性提高了外部強度和耐腐蝕性能。鋁的表面陽極化處理通常在酸性溶液中進行，鍍膜率低，膜層強度低。在工業(yè)級硅酸鈉電解液上，利用交流電壓進行等離子體微弧氧化鋁。該反應可在鋁表面形成非晶陶瓷膜。電壓越高，成膜速率越快。陶瓷膜具有較高的強度和較強的抗堿腐蝕性能。