首先由 小編為大家講解等離子清洗原理：當等離子清洗機艙體內接近真空狀態時，二氧化硅吸附表面改性開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產生等離子體，并且伴隨輝光放電現象，等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動，對物體表面發生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。

下面以氧等離子體去除物體表面油污的例子來說明這些作用。分析可知，氣相法改性二氧化硅表面等離子體等離子體對油污的作用與燃燒油污的作用相似；但不同的是，它在低溫下燃燒。氧等離子體中的氧原子自由基、激發的氧分子、電子和紫外線將它們氧化成水和二氧化碳分子并從物體表面去除。可見，等離子體等離子體去除油污的過程是一個逐步降解有機大分子，形成H2O和CO2小分子，以氣體形式去除的過程。另一個特點是經過等離子清洗后，物體已經完全干燥。

首先,xiaobian將解釋等離子體清洗的原理:當等離子體清洗艙接近真空狀態的身體,打開射頻電源、氣體電離,等離子體,并伴隨著輝光放電,等離子體加速電場下,因此高速運動的電場作用下,表面物理碰撞時，氣相法改性二氧化硅表面等離子體的能量足以去除各種污染物;同時，氧離子能將有機污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣帶出艙室。當你了解了等離子清洗機的工作原理，你也就了解了等離子清洗機是一種提高工作效率的同時也響應了環保的號召。

等離子體聚合具有以下優點：（1）成膜均勻；（2）膜內無氣體；（3）薄膜與基底的附著力好；（4）可進行大面積涂裝；（5）易于與其它氣相法(CVD)和真空蒸發法相結合。本文來自北京，氣相法改性二氧化硅表面轉載請注明出處。。等離子清洗機中頻，射頻，微波功率差！等離子清洗機常見的工頻有三種，40kHz、13.56MHz、2.45GHz，也就是通常所說的中頻、射頻、微波。

氣相法改性二氧化硅表面

一種氣相，其中無機氣體被激發成等離子體狀態，氣相物質吸附在固體表面，吸附的基團與固體表面分子反應形成產物分子，產物分子分解形成；反應殘留物從表面脫落。等離子清洗技術的最大特點是無論被處理的基材類型如何，都可以進行處理。金屬、半導體、氧化物和大多數聚合物材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、多氯乙烷、環氧樹脂，甚至特氟龍等，都經過適當處理，可用于整體和局部清潔以及復雜結構。

等離子發生器作為濺射粒子的來源；在許多工藝中，等離子發生器的這些基本特性無處不在，逐漸形成了以等離子作為加工方式的基礎制造業。單一過程或多個過程的組合可以賦予等離子體多種用途。例如在等離子體中，利用等離子體的化學合成形成新的化學物質，利用粒子的聚合作用在表面沉積一層薄膜。。等離子表面處理技術作為一種新型的表面處理技術，有其自身的優勢。等離子技術在整個過程中采用氣相反應、無液體、快速反應。

放電控制與材料表面的活性粒子和自由基反應，從而引入高活性的極性基因。通過上述工藝的加工，對材料表面進行了改性，增加了材料分子的附著力，增加了材料加工轉化的便利性。一般產品表面不易粘印。通過等離子體表面改性處理，可以更容易地對產品這一部分的表面進行描繪和加工。是一家集設計、研發、生產、銷售、售后為一體的等離子系統解決方案供應商。

另外，針對高要求的超清洗氣源應先過濾，再輸入等離子清洗器的腔體，這時的氣體流量也不可過大. 2、等離子清洗機可以被用于化學表面改性，如果將物質的天然氧化層洗掉后，將物體拿出清洗腔它將會被再次氧化。不同的氣體將會對物體表面產生不同的作用。（氧氣和空氣能氧化物體而氫氣和惰性氣體則不會）注意：如果用氧氣來清洗，應使用專用的真空泵。 3、等離子清洗機可被用于植入物的清洗并改善其粘附性。

二氧化硅吸附表面改性

等離子體處理是通過化學或物理作用處理工件表面，氣相法改性二氧化硅表面反應氣體電離產生高活性反應離子，與表面污染物反應清洗。需要根據污染物的化學組成選擇反應氣體。基于化學反應的等離子體清洗，清洗速度快，選擇性好，對有機污染物有很好的清洗效果。表面反應主要是物理作用，等離子體清洗常用氬氣，無氧化副產物，蝕刻各向異性。一般情況下，等離子體表面改性過程中化學反應和物理作用并存，所以獲得了較好的選擇性、均勻性和方向性。

等離子清洗劑利用這些活性成分的特性對樣品表面進行處理，氣相法改性二氧化硅表面達到清洗、鍍膜等目的。等離子清洗機不僅可以清洗手機的玻璃屏幕，還可以清洗注塑成型時留在手機外殼上的油漬，增加塑料外殼的表面活性，加快印刷和涂裝速度。 ..連接牢固，涂層均勻，美觀，耐磨性大大提高，長期使用也不會出現磨皮現象。。由于等離子清洗機使用氣體作為清洗劑，可以有效避免液體清洗劑對物體表面的二次污染。