等離子體是由正離子、負離子和自由電子等帶電粒子和不帶電的中性粒子如激發態的分子以及自由基組成的部分電離的氣體，含氨基的表面附著力促進劑由于其正負電荷總是相等的，故稱之為等離子體。一些非聚合性無機氣體（Ar、N2、O2等）在高頻低壓下被激發，產生含有離子、激發態分子和自由基等多種活性粒子的等離子體。
以下物質以等離子體狀態存在：快速移動的電子、活化的中性原子、分子、自由基、電離的原子和分子、未反應的分子、原子等。它總體上保持電中性。在真空室中，附著力促進劑嘉興高頻電源在恒壓下產生高能混沌等離子體，等離子體與被洗物表面碰撞。等離子清洗機達到清洗的目的。 1）對材料表面的蝕刻——物理作用等離子體中的眾多離子、激發分子、自由基等活性粒子作用于固體樣品表面，簡單地去除原有的污染物和雜質。
等離子設備用于晶圓加工在表面處理中的應用:晶圓加工是國內半導體產業鏈資金投入的很大一部分，附著力促進劑嘉興等離子設備廣泛應用于硅片鑄造，也有專用的晶圓加工等離子設備。中國的代工行業在整個半導體產業鏈上投入了大量資金。具體來說，foundry就是在硅片上制造電路和電子元件，這對于整個半導體產業鏈來說是一個相對復雜的技術步驟，投資范圍也比較廣。
特征性：能實現各向異性蝕刻，含氨基的表面附著力促進劑以保證細節轉換后圖像的保真性。缺點：成本一般，且用于微流控芯片的制備較少。干式刻蝕系統包括：用于容置電漿用的空腔；空腔上方的石英盤；石英盤上方的多個磁體；旋轉機構，它帶動多個磁體旋轉，其中多個磁體產生與該磁體一起旋轉的磁場。通過進一步提高粒子的碰撞頻率，可以獲得佳的電漿均勻性，提高等離子濃度。。
含氨基的表面附著力促進劑
一般在等離子體清洗中，活化氣體可分為兩類，一類是惰性氣體等離子體（如Ar2、N2等）；另一類是反應氣體（如O2、H2等）的等離子體。。說到等離子體清洗機的激發頻率，通常有三種不同的類型，根據激發頻率分別為40kHz、13.56MHz、2.45GHz，也就是我們常說的中頻等離子體清洗機、射頻等離子體清洗機、微波等離子體清洗機。勵磁頻率的不同主要是由于配置電源頻率的不同造成的。
含氨基的表面附著力促進劑
