相反地，漆膜附著力劃格器的用途進入GaN商店的玩家較少，開始時間較晚。2015年，SiC功率半導體購物中心(包括二極管和晶體管)預計價值約2億美元，到2021年，其購物中心計劃預計超過5.5億美元，這段時間的cagR估計為19%。意料之中的是，消耗大量二極管的功率因數校正(PFC)電源市場將繼續存在碳化硅最重要的用途是大功率半導體。
此外，附著力劃格試驗標準等離子浸入干法刻蝕與沉積技術理論與設備也獲得了長足的進步，面對日益增長的對于生物醫學工程材質需求，一種加工過程相對簡單用途廣泛的技術無疑具有肥沃的生長土壤，通過材質、等離子物理、化學、生物以及臨床醫學研究人員共同努力，等離子浸入干法刻蝕與沉積技術無疑將會逐漸成為一項成熟的生物醫學工程材質工程技術。。幾乎所有的前照燈都是粘合的，以滿足配光鏡和外殼之間的防漏要求。
近環境溫度等離子體處理可以減少對熱敏性材料的損傷。等離子體表面處理設備工藝具有一定的靈活性和一致性，漆膜附著力劃格器的用途取決于工藝氣體和用途，等離子體處理可用于清洗、活化、清洗和表面改性等特性。等離子體與各種材料反應，所以它們也可以加工由不同材料制成的組件。2、加工效率高，加工時間短，無干燥階段，能耗低。等離子體處理可避免因溶劑損壞而造成的熱損失和工藝損失。
連續/半連續式處理，附著力劃格試驗標準高效率，高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
附著力劃格試驗標準
激發頻率為40KHz的真空plasma等離子清洗機電源功率一般都比較大，溫度一般也比較高，清洗溫度70~100℃。因此一般大型的中頻真空等離子清洗機真空腔室都配有水冷電極托盤，防止清洗溫度過高對產品造成損傷。
污染合理地去除了前端處理過程中留下的殘留物，使半導體在整個鍵合過程中熔化。與傳統的濕法清洗工藝相比，它既環保又便宜。。等離子發生器用于半導體和光電子行業的特點：等離子發生器清洗在光學、光電子、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物學和微流體等領域得到廣泛應用。
以下物質存在于等離子體中：高速運動的電子、受激發狀態的中性原子、分子、原子團(自由基)；離子化的原子、分子、分子解離反應產生的紫外線；未反應的分子、原子等，但物質在整體上仍然是電中性的。等離子體清洗機理，主要依靠等離子體中活性顆粒的“活化作用”來達到清除物體表面污漬的目的。
活化效果非常有效且均勻，處理后表面無熱量積聚；2.等離子清洗機不會對外殼造成任何損傷；3.所有粘合表面均可處理，包括底部和側壁；4.等離子清洗機對結合面進行全部預處理，包括槽根和側壁處理；5.精密清洗可減少壁厚，節省材料；6.等離子清洗機清洗工序可與現有流水線配套，實施在線自動化生產，節約生產成本，提高生產效率。。等離子體清洗機是一種部分電離的氣體，是除固體、液體和氣體外的第四種物質狀態。
漆膜附著力劃格器的用途
