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等離子清洗機設備的清洗技術對工業和現代文明的發展有著很大的影響，尤其是在電子信息產業，尤其是半導體產業和光電子產業。在這個階段，物理和化學清洗方法大致包括濕法清洗和干法清洗。等離子清洗設備在干洗領域發展迅速，具有很大的優勢。等離子清洗設備正逐漸在半導體制造、微電子封裝、精密機械等行業得到越來越廣泛的應用。濕法清洗使用酸、堿等化學物質較多，清洗后需要產生大量廢氣和廢液。

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