等離子處理是通過化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理，氧化鋁反應(yīng)附著力促進(jìn)劑反應(yīng)氣體被電離，產(chǎn)生高反應(yīng)活性離子，與表面的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而達(dá)到清潔的目的。應(yīng)根據(jù)污染物的化學(xué)成分選擇反應(yīng)氣體。基于化學(xué)反應(yīng)的等離子清洗速度快、選擇性高，對(duì)有機(jī)污染物有極好的清洗效果。最常用的等離子清洗，其表面反應(yīng)基于物理作用，是使用氬氣，它不會(huì)產(chǎn)生氧化副產(chǎn)物，并且蝕刻效果是各向異性的。
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因此，氧化鋁反應(yīng)附著力促進(jìn)劑對(duì)氫氟酸的使用，需要兼顧硅溝槽的清洗效果和淺溝槽隔離氧化硅的損耗。 鍺硅的外延生長對(duì)硅溝槽表面性質(zhì)非常敏感，很容易形成各種外延缺陷。因此對(duì)硅溝槽等離子清洗機(jī)設(shè)備干法蝕刻后的灰化工藝選擇就變得非常關(guān)鍵。灰化工藝不僅要去除殘余光阻，還要得到純凈的硅表面以利于鍺硅的外延生長。灰化工藝包含氧化型灰化，低氫混合氣體(含有4%氫氣的氮?dú)鈿錃饣旌蠚怏w)灰化、高氫混合氣體(氫含量大于20%)灰化。
通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑，氧化鋁反應(yīng)附著力促進(jìn)劑容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。
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其中，物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)，從而達(dá)到清洗目的。 我們的工作氣體，經(jīng)常用到氫氣（H2）、氮?dú)猓∟2）、氧氣（O2）、氬氣（Ar）、甲烷（CF4）等。
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2、激活鍵能，交聯(lián)效果： 等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體效果到固體外表后，可以將固體外表的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵構(gòu)成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了外表活性。
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