表面反應產生揮發性副產物，漆層附著力實驗由真空泵抽出。吸塵器沒那么復雜。根據電源頻率，以40KHZ和13.56MHZ為例。正常情況下，物料在一個腔體中運行，頻率為40KHZ，典型溫度小于65°，機器配備強大的冷卻風扇。如果處理時間不長，表面溫度將與材料在室溫下相同。 13.56MHZ的頻率會低一些，一般小于30°。因此，在處理容易受熱變形的材料時，低溫真空等離子清洗機是合適的。等離子真空吸塵器工作時，腔內的離子是定向的。

功率大可以做幾十KW，漆層附著力實驗甚至從理論上講，幾百KW，經常用來去除殘膠，蝕刻，如果真空等離子清洗機使用中頻電源，就需要水冷卻，這也是常用的等離子電源。大氣壓旋轉噴射火焰射頻等離子清洗機溫度與室內天氣溫度大致相同，當然，如果真空機整天不間斷使用，還是有必要添加水冷卻系統。等離子體射流的平均溫度約為200-250°C。如果間距和速度設置正確，表面溫度可以達到70-80°C左右。

后者除了供軸向工作氣外,還像電弧等離子體炬氣穩弧一樣,切向供入旋轉氣流以冷卻并保護放電室壁(通常用石英或耐熱性較差的材料)。  高頻等離子體炬在工業中已有多方面的應用，漆層附著力視頻特別是在等離子體化工、冶金和光學材料提純等方面。它還可制備超導材料，如用氫高頻等離子體還原釩－硅（或釩－鍺），鈮－鋁（或鈮－鍺）的氯化物蒸氣以制備超導材料。

在PLC還沒有出現之前，漆層附著力實驗所有的plasma等離子清洗機的控制系統都是以繼電器控制為主。繼電器控制一般包括按鈕和觸點控制兩種控制方式。按鈕控制就是指用手動控制器控制用電設備的電路;而觸點控制則是使用繼電器做邏輯控制，其控制對象既有用電設備電路，也有繼電器的自身線圈。 繼電器控制是利用電器元件的機械觸點串并聯來組合成邏輯控制電路。實驗型真空等離子清洗機就是采用按鈕操作方式控制的。

漆層附著力為什么要冷卻

大多數實驗室在真空等離子體清洗設備中單獨或結合使用這五種氣體。

1 Rf 13.56mhz 0-200W大功率機型，自動發電機匹配，無需調整反射波，進一步增加了操作的便利性。2標配數字皮拉尼傳感器，真空實時顯示，控制更準確。3高硼硅玻璃腔體非常適合實驗室加工相對純凈的精細元素、硅片樣品，無需擔心因腔體材料原因導致樣品污染配備溫度、壓力、等離子發生器異常三層報警燈，實時監控和了解機器的運行狀態。配備過流漏電保護開關、自診斷回路、異常蜂鳴器報警等安全功能。

這種電離氣體是由原子，分子,原子團，離子，電子組成。其作用在物體表面可以實現物體的潔凈清洗、物體表面活(化)、蝕刻、精整以及等離子表面涂覆。根據等離子體中存在微粒的不同，其具體可以實現對物體處理的原理也各不相同，加之輸入氣體以及控制功率的不同，都實現了對物體處理的多樣化。因低溫等離了體對物體表面處理的強度小于高溫等離子體，能夠實現對處理物體表面的保護作用，應用中我們使用的多為低溫等離子體。

活性等離子體對被清洗物質進行物理轟擊和化學反應，使被清洗物質的表面物質變成顆粒和氣態物質，抽空排出，從而達到清洗的目的。等離子清洗是一種&ldquo；干&rdquo；該表面清洗技術適用于各種類型的材料，如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料。同時，被清洗對象的幾何形狀不受限制，清洗成本遠低于濕法清洗。僅用幾瓶煤氣就能代替上千公斤的清洗液。

漆層附著力實驗

(2)物理reactionMainly等離子體中的離子作為純粹的物理碰撞,材料表面的原子或附加表面的材料,因為平均壓力較低的離子自由基更輕,很多的積累能量,當物理影響,離子能量較高,一些影響,所以如果你想以生理反應為主,有必要控制的壓力反應,清洗效果更好,為了進一步說明清洗各種設備的效果。等離子體清洗機的機理，漆層附著力實驗主要依靠等離子體活性粒子的活化來達到去除物體表面污漬的目的。

氣體放電按外加電場的頻率分為直流放電、低頻放電、高頻放電、微波放電等。等離子體發生器產生高壓、高頻能量，漆層附著力視頻并通過在噴嘴鋼管中激活和控制的輝光放電使空氣電離，從而產生低溫等離子體。就像火焰一樣，如下圖所示。等離子也是一樣。接下來，我們需要知道等離子體是物質的第四態，即電離的“氣體”。在壓縮空氣的幫助下，等離子被噴射到工件表面。