多晶硅片等離子刻蝕清洗設備干法刻蝕方法因其產生的離子密度高，尼龍料附著力差是怎么回事蝕刻均勻，蝕刻側壁垂直度大，表面光潔度高，可以清除表面雜質而逐漸被廣泛應用于半導體加工技術。 現(xiàn)代半導體技術的發(fā)展對蝕刻的要求越來越高，多晶硅片等離子刻蝕清洗設備滿足了這一要求。設備的穩(wěn)定性是保證生產過程穩(wěn)定、重復性的關鍵因素之一。
圖1-1 電感耦合等離子體清洗機放電示意圖電容耦合式（Capacitance Coupled Plasma）等離子體清洗機CCP的工作原理與ICP不同（如圖1-2所示），尼龍料附著力差在CCP反應器中，將兩極板與射頻電源相連接，并在兩平行金屬極板之間通入氣體，當施加的電壓大到可以擊穿所通的氣體，電流就會在兩金屬極板之間流動，造成氣體放電的現(xiàn)象，從而產生了等離子體。
等離子清洗技術在電子行業(yè)的應用已經非常成熟，尼龍料附著力差其階段逐年增加，國內展覽空間大，前景誘人，隨著人們生活水平的不斷提高，消費產品的數(shù)量也越來越高，此外，隨著科技的不斷發(fā)展，新材料的出現(xiàn)，越來越多的科研機構和企業(yè)已經意識到等離子清洗技術的重要性，相信在不久的將來，等離子清洗技術將越來越受歡迎，活躍在人們的視野中。1)電子產品在填充前需要經過等離子清洗技術的活化，否則產品表面的密封能力無法得到保證。
現(xiàn)有的高溫合金(如高溫鎳合金的極限使用溫度為1075℃)和冷卻技術難以滿足設計要求，尼龍料附著力差是怎么回事解決這一問題的方法是在高溫下的零件上噴涂熱障涂層，防止傳熱，防止基板金屬溫度升高或降低基板的加熱溫度等。
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它的激發(fā)氧原子比普通氧原子更活躍，能氧化污染潤滑油和硬脂酸中的碳氫化合物，將其轉化為二氧化碳氣體和水。同時，等離子清洗機的射流還具有機械沖擊力，起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物快速從玻璃表面分離出來，實現(xiàn)高效清洗效果。離子清洗機清洗玻璃表面層，除了機械作用外，主要是等離子體中活性氧、激發(fā)態(tài)Ar和氧分子被激發(fā)與氧分子碰撞而分解的化學作用。激發(fā)態(tài)氧原子在潤滑劑和硬脂酸之間被污染。
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