等離子清洗機的頻差及應用常用的等離子體激勵頻率有三種：激勵頻率為40kHz的超聲等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。非均勻等離子體的自偏壓不同，500型平板片材電暈處理機超聲等離子體的自偏壓在1000V左右，射頻等離子體的自偏壓在250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子體的機理不同。
質量和成本受包裝工藝的影響。未來集成電路技術以尺寸為特征，500型平板片材電暈處理機IC封裝技術向小型化、低成本、個性化、綠色環保方向發展。密封設計盡快協調發展。真空等離子清洗機在半導體行業已有成熟的先例。IC半導體的主要生產工藝是在20世紀50年代以后發明的。起初，由于各種元器件和布線都非常精細，因此，IC在制造過程中容易產生灰塵，或者有機物等污染，很容易造成晶圓損壞和短路。
其特點是啟動快，電暈處理意思是什么耗電少，運行維護成本低，抽速高，效率高，對抽氣中的少量水蒸氣和粉塵不敏感，在~1Pa壓力范圍內抽速大，快速消除突然釋放的氣體，無需油潤滑；轉速可高達3450～4r/min；泵送速率為30～00L/s。極限真空度：單級泵的6.5倍；102Pa，兩級泵1倍；103Pa.5.擴散泵是動量傳遞泵。其特點是用于真空熔煉和鍍膜的真空度高，空間模擬實驗和對油污不敏感的真空系統。
活性等離子體對被清洗物表面進行物理轟擊和化學反應，500型平板片材電暈處理機使被清洗物表面物質變成顆粒和氣態物質，抽真空排出，達到清洗目的。
電暈處理意思是什么
真空等離子體清洗機控制器的功能主要是對模擬量進行監測和控制，處理一些復雜的邏輯和數據運算，這對控制器的質量會有一定的要求；常壓等離子體清洗機控制器主要起到定位控制、模擬控制、邏輯控制以及相關參數的設置和監控的作用。可編程控制器可實現精確定位和模擬量數據采集，觸摸屏連接以太網可實現相關參數的實時監控。。一般來說，等離子清洗機的放電過程是自持放電和非自持放電。
在真空泵作用下，艙內氣壓達到5-10毫托，然后在高頻發生器作用下，電極之間發生等離子體，再對樣品外部進行處理，達到改變外部活性的意圖。
此外，等離子體設備還適用于大規模細胞培養皿的生產，可以抑制孢子增厚，增加親代細胞和子代細胞培養的可靠性。在電子器件制造和外層科學中，非沉積蒸氣等離子體輻射用于生物材料外層清潔消毒已有多年。等離子體設備用于去除外層接觸污垢，減少濺射留下的殘液，減少外層吸附。通用輝光發射器電清洗法是將材料放入某種電離蒸汽中，用低能離子和電子器件轟擊材料外層。
鑒于等離子體后工作氣體在低壓氣氛中一邊膨脹體積一邊噴出，噴射速度為超音速，非常適合氧化敏感性高的材料。等離子體工藝的應用前景；等離子體是有別于固體、液體和氣體的第四種化學物質。化學物質由分子、原子的分子、帶正電荷的原子核的原子和帶負電荷的電子組成。當施加高能時，電子離開原子核，化學物質變成由帶正電荷的原子核和帶負電荷的電子組成的等離子體。看似神秘的等離子體并不少見。
500型平板片材電暈處理機
