氫氣是一種危險氣體，超聲可以改變氧化鋁親水性與氧氣結合時會發生爆炸而不會被電離。因此，一般不允許在真空等離子處理裝置中混合兩種氣體。在真空等離子體狀態下，氫等離子體與氬等離子體一樣呈紅色，在相同放電環境下比氬等離子體略暗。 3.氣體選為氮氣：氮顆粒較重，是介于活性氣體和惰性氣體之間的氣體，可以提供沖擊和蝕刻，同時防止一些氧化。金屬表面。氮氣和其他氣體的等離子體。常用于加工某些特殊材料。

氬等離子體的優點是它可以清潔材料表面而不會留下氧化物。缺點是過度腐蝕或污染的顆粒會在其他不需要的區域重新積聚，氧化鋁親水性材料但可以通過微調工藝參數來控制這些缺點。 3.同時清洗等離子、化學反應物理和化學反應在清潔中起著重要作用。在在線等離子清洗過程中使用 O2 氣體混合物時，反應速度比單獨使用 Ar 或 O2 更快。氬離子加速后，所產生的動能可以提高氧離子的反應能力，允許物理和化學方法去除表面嚴重的污染物。。

廣東金徠生產的等離子清洗機就是一種清洗很精細、很徹底的表面處理設備。等離子清洗原理與超聲波原理不同，超聲可以改變氧化鋁親水性當艙體里接近真空狀態時，開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產生等離子體，并且伴隨輝光放電現象，等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動，對物體表面發生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。

.. 2.等離子加工設備的激發頻率分類等離子體的相對密度與激發頻率有關。 nc = 1.2425 × 108v2，氧化鋁親水性材料其中 nc 是等離子。子態的相對密度 (cm-3)，v 是激發頻率 (Hz)。現階段常用的等離子處理設備具有三種不同的激發頻率。激發頻率為 40 kHz 的等離子體是超聲波等離子體、13.56 MHz 等離子體處理器、2.45 GHz 等離子體處理器。不同的等離子體處理設備提供相同的自偏壓。

氧化鋁親水性材料

(1)基于“增大化現實”技術的表面等離子體清洗機cleaningOn單晶硅表面的床單,夾層玻璃,和其他產品加工過程中,表面細顆粒物的基本通常是由Ar等離子體過渡,為了實現細顆粒物是分手,脫落(以及材料表面消除)的效果,并結合超聲波清洗或離心清洗過程,(2) Ar等離子清洗機的表面鈍化處理等離子清洗機的表面鈍化處理又稱表面干蝕刻，其目的是提高原材料的表面粗糙度，以提高粘接、印刷和包裝、電弧焊與其它焊接工藝過程緊密結合，經過氬等離子清洗機處理后，界面張力會顯著提高。

目前，應用于微埋盲孔的清洗工藝主要有超發波清洗和等離子清洗兩種。超聲波清洗主要是基于空化作用來達到清洗的目的，屬于濕法處理，清洗時間長，而且取決于清洗液的清洗性能，增加了廢液的處理。目前廣泛應用的工藝主要是等離子體清洗工藝，等離子體處理工藝簡單、環保、清洗效果明顯，對于盲孔結構非常有效。等離子體清洗是指高活性等離子體在電場作用下的定向運動，與孔壁的鉆孔污物發生氣固化學反應。

對于產品形狀要求，最好使用等離子清洗機進行清洗。傳統的濕法清洗通常效率低下，但使用等離子清洗機可以在幾分鐘內完成整個清洗過程。顯著提高（上）生產效率。清潔材料通常是清潔過程中更重要的問題。采用常規的濕法清洗，很多材料無法清洗或難以達到清洗效果（效果）的工藝標準。

等離子清洗作為近年來快速發展的清洗工藝，為經濟發展和環境無污染等問題提供了合理有效的解決方案。根據不同的基板和芯片材料，可以采用不同的清洗工藝來獲得滿意的實際效果，尤其是針對此類不同的污染物。然而，不當的工藝應用會導致成品被丟棄和無法使用。銀原料集成IC的方案采用氧低溫等離子工藝，氧化變黑，進一步報廢不能使用。因此，為LED封裝選擇合適的等離子清洗工藝非常重要，熟悉等離子清洗的基本原理更為重要。

超聲可以改變氧化鋁親水性

目前，超聲可以改變氧化鋁親水性碳纖維材料的表面改性已成為碳纖維材料生產中必不可少的重要工序。因此，對碳纖維材料進行等離子體表面改性，改善其表面界面性能，是碳纖維材料生產和應用的重要環節。碳纖維是一種常用的高性能纖維增強聚合物基高分子材料中的無機纖維。碳纖維材料具有低密度、高強度、高模量、耐高溫、耐化學腐蝕、機械減震等一系列優異性能。而碳纖維材料的表面是非極性的、高度晶化的石墨基底結構，表現出高度的反應慣性。

等離子表面處理設備應用于包裝行業，超聲可以改變氧化鋁親水性又可以被叫做等離子設備，它還可以被運用到汽車行業，所處理的材料就非常的廣泛了，像覆膜，UV,以及高分子，玻璃，橡膠，還有金屬都可以處理。  為了保證印刷時不被蹭花，提高防水性，也提高產品的品質，在傳統的工藝里面為了對付開膠的現象，都是將糊口的部分上了UV進行打磨，用此法來解決開膠的問題。