細胞損傷，pmma表面附著力提升PMMA/NVP復合材料表面引起的細胞損傷小于10%。等離子沉積的 C3F8、HEMA 和 NVP 薄膜可以顯著減少角膜細胞損傷。此外，沉積在PMMA表面的NVP薄膜的粘合強度遠小于PMMA。等離子體處理通常是導致表面分子結構發生變化或表面原子被替換的等離子體反應過程。即使在氧氣或氮氣等惰性氣氛中，等離子體處理也可以在低溫下產生高反應性基團。在這個過程中，等離子體也會發出高能紫外光。
該現象發生在蝕刻開始時。與H2相比。這增加了PS的蝕刻速率并降低了選擇性。CO沉積在PS表面并且可以用來調節刻蝕選擇性。使用這三種氣體的混合物，pmma表面附著力提升選擇性竟然有5種以上。這適用于工業生產，但是XE-CO的混合氣體在上面沉積更多的木炭PMMA的表面，破壞了原來的圖案。相比之下，CO-H2的組合對圖案化的影響很小，對實際控制有用。在10NM工藝中，使用CO-H2，邊際尺寸差異小于1NM，直徑15NM。
兔子角膜和晶狀體之間的靜態“接觸測試”表明，pmma表面附著力提升未經等離子體處理的 PMMA 表面造成了 10-30% 的細胞損傷，而經過處理的 PMMA/HEMA 復合材料表面結果證明它只造成了 10% 左右。 PMMA/NVP復合材料表面造成的細胞損傷小于10%。等離子沉積的 C3F8、HEMA 和 NVP 薄膜在減少角膜細胞損傷方面都具有明顯（顯著）的效果。
等離子設備等離子體蝕刻對NBTI的影響：負偏壓溫度不穩定性(NBTI)指PMOS在柵極負偏壓和較高溫度工作時，pmma與金屬附著力其器件參數如Vth、gm和Idsat等的不穩定性。如果是NMOS器件，就對應PBTI，正偏壓溫度不穩定性。 NBTI效應發現在1961年。
pmma與金屬附著力
第二階段：第二供應商（2021-2023） APPLE正在積極尋找MINI LED關鍵零部件的第二供應商，以分散供應風險并降低成本。這一階段預計將持續到 2023 年。 MINI LED關鍵元器件的第二供應商大多為中國廠商，成本優勢明顯，產量可滿足APPLE要求，出貨占比將大幅提升。
此外，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是產品提升的關鍵技術，比如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術、人工關節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發完成。
除了所需的穩定性，P型半導體還具備以下條件： (1) 由于HOMO能級高，可與電極形成歐姆接觸，空穴可順利注入。 (2)具有很強的給電子能力。常見的有：并五苯、紅熒烯等稠環芳烴等聚合物，有機化學半導體用等離子表面處理設備可活化改性的聚合物（3-己基噻吩）。采用等離子表面處理設備對絕緣表面進行裝飾，使有機物的堆積更加均勻光滑，從而顯著提高器件的擴散性，提高器件的功能性。活動和變化，設備性能得到了顯著提升。。
pmma表面附著力提升
