等離子體清潔機技術，uv表面絲印附著力作為一種新型的表面處理和干法清潔工藝，近幾年來隨著各行各業尤其是精密電子行業對它的應用研究持續深入，現已為大家所熟知。Plasma免溶劑干法精細化清洗，在淘汰ODS 和有機揮發性VOC清洗劑過程中能夠發揮重要作用，它相較于溶劑清洗俱有工藝簡單、成本低、環保節能等特點，還可作為溶劑型深度清洗的重要補充。
根據等離子體作用下C2烴的產率，uv表面絲印附著力負載的過渡金屬氧化物的催化活性順序如下： Na2WO4 / Y-Al2O3> Cr2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3 ≈ NiO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Co2O3 / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3 ≈ Re2O7 / Y-Al2O3 根據 CO 產率的高低，負載的過渡金屬氧化物的催化活性順序如下： NiO / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3> Re2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3 ≈ Co2O3 / Y-Al2O3> MoO33 / Y-Al2O3 ≈ ZnO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 Y -Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-A12O3。
微波等離子體系統與RF射頻刻蝕系統相比具有較高的刻蝕速率。另一方面，uv表面附著力是什么意思直接微波等離子體工藝使電池溫度保持在很低的水平，避免了熱應力。等離子清洗機已應用于各種電子元器件的制造。可以肯定的是，沒有等離子清洗工藝，就沒有今天如此發達的電子、信息和通信產業。
在蝕刻過程中，uv表面絲印附著力添加CHF3、N2、CH4等氣體以快速形成聚合物并提供側壁保護。這優先將氟、氮或碳氫化合物吸附到金屬鋁側壁，進一步減少氯原子和鋁側壁。 壁接觸反應以保護側壁，增加氯基氣體對金屬鋁的各向異性蝕刻能力。等離子工業清洗機研究了這三種不同氣體對蝕刻后金屬鋁側壁形態的影響。結果表明，N2保護氣體在刻蝕過程中產生了過多的側壁保護，并傾向于形成梯形側壁。
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通過實驗，提高了等離子清洗機生產的耳機各部分之間的粘接效果，在長時間的高音測試中不會出現斷音現象，使用壽命也大大提高。
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