而低溫等離子體技術對氣體的流速和濃度都有一個很寬的應用范圍，親水性物質吸附親水性低溫等離子設備其應用廣泛不言而喻。 等離子體技術工藝簡單。吸附法要考慮吸附劑的定期更換，脫附時還有可能造成二次污染；燃燒法需要很高的操作溫度；生物法要嚴格控制pH值、溫度和濕度等條件，以適合微生物的生長。而低溫等離子體技術則較好的克服了以上技術的不足，反應條件為常溫常壓，反應器結構簡單，低溫等離子設備并可同時消除混合污染物，不會產生二次污染等。

以下三步蝕刻反應如下：化學吸附:F2&RARR；F2(ADS)&RARR；2F(ads)反應:Si+4F(ads)&RARR；SiF4(ads)解吸:SiF4(ads)&RARR；SiF4（氣體）在刻蝕過程中，mof吸附親水性染料高密度等離子體源具有更精確的工件尺寸控制、更高的刻蝕速率和更好的材料選擇性等優點。高密度等離子體源可以在低電壓下工作，因此可以減弱鞘層振蕩。

聚乙烯、聚丙烯和聚四氟乙烯在基本上是極性聚合物的分子中沒有極性基團。油墨和粘合劑在被粘物表面的吸附是由于范德華力（分子內力）。范德華力有排列力、感應力和分散力。極性高分子材料的表面沒有產生取向力或感應力的條件，吸附親水性物質分散力弱，附著力差。聚烯烴材料本身含有加工過程中添加的低分子量物質和添加劑（增塑劑、抗老化劑、潤滑劑等）。用于印刷、層壓和粘合。

因此，吸附親水性物質在發光二極管封裝行業，建立自動化概念很重要，成本控制也可以精細管理。等離子清洗是發光二極管行業不可或缺的一部分。等離子清洗機在發光二極管行業的應用主要包括三個方面: 第壹，在銀膠被點擊之前：基片上的污染物會使銀膠變成球狀，不利于芯片粘貼，容易造成芯片手易損壞。射頻法等離子法可大大提高工件表面的粗糙度和親水性，有利于銀膠的平鋪和片狀粘接，同時可大大減少銀膠的用量，降（低）成本。

吸附親水性物質

纖維表面經過等離子體處理后，膠狀物能被分解掉，在纖維表面形成親水基，形成細裂紋。等離子體處理后，可顯著增強纖維的毛細效應，使纖維表面的潤濕性有明顯的改善，粗糙度增加，染色率、染色深度增加。經等離子體處理，可顯著改善紡織物印花的著色性，圖案輪廓十分清晰。近來，電漿清洗機被應用于大麻的抗皺整理，與等離子技術與生物技術如酶的結合。 麻布的舒適、衛生、雅致，為亞麻布增添了需求。

等離子體清洗機的表面活化:使表面親水性或疏水性，結合和沉積前的表面預處理等離子體清洗機的表面聚合沉積具有功能分子基團的聚合物，并將聚合物移植到活化材料的表面;可提高表面潤濕能力，使各種材料可進行涂布、電鍍等操作，增強粘接強度和結合力，同時等離子清洗機去除油污或潤滑脂、有機污染物，蝕刻改性等離子體表面清洗設備可處理粘接材料或根據客戶需求改變表面特性。它是由血漿中含有的活性粒子(自由基)的反應激活的。

通常用線性理論研究不穩定性，只能判斷系統是否穩定，在某些情況下可以給出初始時刻不穩定性的增長率。當擾動的振幅增大，當擾動在適當條件下趨于飽和時，就需要用非線性理論來研究演化問題。。等離子熔煉用于冶煉普通方法難以冶煉的材料，如鋯(Zr)、鈦(Ti)、鉭(Ta)、鈮(Nb)、釩(V)、鎢(W)等高熔點金屬；它還用于簡化工藝，如分別從ZrCl、MoS、TaO和TiCl中直接獲得Zr、Mo、Ta和Ti。

等離子刻蝕對等離子設備NBTI的影響：負偏壓溫度不穩定性（NBTI）是指MIMO在負柵極偏壓和較高溫度下工作時，器件參數如VTH、GM、IDSAT的不穩定性增加。如果是NFS器件，對應PBTI，正向偏置溫度不穩定。 NBTI 效應于 1961 年被發現。等離子刻蝕對NBTI的影響還是很大的，NBTI影響的主要原因是對MIMO施加了負柵偏壓。經過一段時間的負柵極偏置和溫度應力后，PMOS 變為 SI/。

mof吸附親水性染料

對于CO產率，mof吸附親水性染料功率密度從350kJ/mol增加到2200 kJ/mol時，CO產率從11.6%增加到76.4%，提高了近65個百分點。這說明在實驗檢測的能量范圍內，提高功率密度有利于提高C2烴類和CO的產率。但從能耗角度考慮，僅以產物產率來衡量反應效率是不全面的。因此，有必要引入物理量能量效率來評價等離子體處理器作用下CO2氧化的甲烷轉化反應。