通過在聚合物表面引入羧基(-COOH)、過氧化物(-O-O-)、羥基(-OH)和氨基團(-NH3)和極性物質，陰離子表面活化劑造粒機引起極性基團重排和非極性基團表面遷移或增加。促進材料的表面能體液與血液的接觸反應和細胞的粘附固定。等離子體處理后的材料表面，可以產生廣泛分布的陰離子、陽離子、官能團和自由基等。陽離子通過靜電相互作用，促進蛋白質的粘附，陰離子和鈣離子的結合促進細胞外基質的礦化。。

等離子清洗機通過半年的工藝探索，陰離子表面活化劑危害與客戶深度合作，通過修改清洗配方，改變反應腔結構材料，提高腔清洗的均勻性等，最終將可靠的HC和陰離子數達到標準要求以下，該技術已在中國(國際)硬盤支架中獲得no.;1 .推廣應用生產基地的市場占有率，大大提高了成品率，降低了生產成本，更重要的是提高了硬盤的穩定性和壽命，可靠性和防撞性也有了光明(明顯)的提高。為客戶帶來了巨大的經濟效益和發展機遇。

目前，陰離子表面活化劑造粒機提高電極片粘合性能的常用方法有機械拋光、噴砂、化學處理等，其中機械拋光或噴砂會使電極片變形，二次造成污染。等離子體被稱為物質的第四種形式，富含大量的正離子、負離子和其他特定離子。電暈等離子加工機是廣泛用于各種材料表面改善的優良表面改善方法。陽離子和陰離子氣體噴射在鍵面上，能量通過輻射、中性粒子流、離子流的碰撞作用在鍵面上，在材料表面形成自由基和化學反應。同時，身體和化學變化，如腐蝕、聚合和交聯。

，陰離子表面活化劑造粒機這已成為硬盤空間的發展瓶頸，成為業界公認的問題。目前，化學清洗方法主要用于（減少）HCs 和相關陰離子的數量，收率低且效果不理想。經過六個月的工藝研究和與客戶的密切合作，等離子清洗機將改進清洗配方，改變反應腔的結構材料，提高腔內的清洗均勻性。該技術在全球硬盤支架市場占有率第一的生產基地得到廣泛應用和應用，顯著提高了成品良率，降低了制造成本，更重要的是穩定了硬盤的性能和壽命可靠性和抗沖擊性。

陰離子表面活化劑危害

硬盤的穩定性取決于硬盤支架和磁盤表面的壽命和穩定性，其中，硬盤支架上的HC和陰離子數量過多，會直接導致硬盤在運行過程中出現類似干電池的腐蝕，進而導致硬盤因數據丟失而報廢，用傳統方法很難有效降低（減少）其數量。因此，HC及相關陰離子很難降（減）到標準要求，成為硬盤領域發展的瓶頸，是業界公認的難題。目前，為了（減少）HC及相關陰離子的數量，常采用化學清洗，導致收率低，效果不理想。

這種等離子效應帶來了均勻的表層親水性， 等離子處理機不僅能在幾秒內的時間內創造出最佳的附著性，還能確保涂料實現高質量的漆面。等離子處理機改性原理對低壓氣體施加電場作用，氣體分子或原子就會發生離解，成為一種除了中性原子外還含有陽離子及數量大致相同的陰離子或電子的氣體，處在這種狀態的氣體就稱為等離子體。與通常的氣體相比，它是處在受到高度激發的高能狀態。

等離子性能處理器產生的直接結果是：一、產品裝訂質量更可靠、更基礎消除膠盒開口的問題。其次，不要依賴進口優質粘合劑，只需使用普通的環保水性粘合劑即可。成本降低 50% 或更多。三是消除了磨邊工序，消除了紙塵對周圍環境和人體呼吸道的危害。等離子處理是表面清潔、活化（化學）和涂層的有效處理工藝之一，可用于處理塑料、金屬和玻璃等各種材料。。

等離子表面處理機的優點:1、遠離有機溶劑對人體的危害。2、綠色清洗法。3、不需要過多考慮清洗對象的形狀，不規則復雜的物料都可以清洗。4、進一步提高清洗工作效率。5、等離子清洗機清洗成本低。6、可解決各種材料，無論是金屬材料、半導體材料、金屬氧化物還是高分子材料。7、在清洗、去污工作中，可以改善材料本身的表面特性。

陰離子表面活化劑造粒機

在處理大量工件時需要考慮這個問題。綜上所述，陰離子表面活化劑造粒機等離子清洗技術適用于清洗物體表面的油、水、顆粒等輕微油漬，也可以在線或在線幫助您“快速、快速”地完成。批量清洗。等離子清潔劑在去除表面污染物時不會對健康或安全造成危害。與高清潔度標準的高精度電子元件相比，需要應用更精細的清潔和加工技術。等離子清洗是一種可以合理有效地替代化學清洗的加工技術。此外，等離子清洗可與水清洗技術相結合，以提高清洗過程的實際效果。

選擇氬氣作為真空等離子清洗機plasma的清洗氣體，陰離子表面活化劑危害氬氣等離子技術的清洗原理是利用微粒機械能進行清潔，氬氣為惰性氣體，在清潔過程中不會引起產品與氣體發生化學反應，避免二次污染，由于前端加工過程中殘留的殘渣能被合理清除，從而使半導體可在整個鍵合過程中融合。相對于傳統的濕法清洗工藝，真空等離子清洗機plasma等離子體工藝環保，價格低廉。。