等離子體氣體在高頻電作用下產生高速電子直接沖擊門板表面的雜質分子，氫氧化鈉改性活性炭表面使雜質分子分解成小分子；此外，高速電子與雜質分子碰撞，并在碰撞過程中與等離子體氣體發生反應。在整個碰撞反應過程中，氣體分子被電流激發電離后，產生大量活性粒子。這些活性顆粒因為碰撞與門板表面的雜質分子發生反應，雜質分解成揮發性物質被吸走。

進入洞口。尤其是在激光開挖設備的加工中，活性炭表面氧化改性可靠性較低，目前微埋盲孔的清洗方式主要是超聲波清洗和等離子清洗，而超聲波清洗主要是通過空化實現清洗，屬于濕法加工。除了去污清洗液的問題，還有廢水處理的問題。目前廣泛使用的工藝主要是等離子清洗工藝，該工藝簡單、環保、清洗效果明顯，對盲孔結構非常有效。等離子清洗機是指高活性等離子在電場作用下定向運動，在孔壁發生挖渣和氣體凝聚化學反應，并由氣泵排出。

經過短期等離子體處理后，活性炭表面氧化改性PBGA基導線的結合能力比清洗前提高了2%，但當清洗時間增加1/3時，PBGA基導線的結合強度比清洗前提高了20%。這里應該注意的是，過度的加工時間并不總是提高材料的表面活性。在大批量生產中，減少加工時間、提高生產效率尤為重要。

(注意每個電極的初始位置，氫氧化鈉改性活性炭表面以便清洗后安裝在同一位置);(2)保護好冰水機的進水口和出水口，取下電極，室溫浸泡在10%氫氧化鈉溶液中。浸入時，每2分鐘檢查一次電極，直到所有的殘留物都被清除。(3)用城市水徹底沖洗電極3分鐘;(4)在硫酸和水(重量5%)溶液中浸泡1分鐘(不干燥)，(5)用蒸餾水沖洗電極2次，每次3分鐘;(6)將電極烘干;(7)將電極裝回原位，必要時更換絕緣子。

活性炭表面氧化改性

滾筒不能通過將它們浸入氫氧化鈉和硫酸中來清洗。 (2) 將托盤架浸入 10% 的氫氧化鈉溶液中。在浸泡過程中，每 2 分鐘檢查一次托盤架，直到完全清除殘留物。實際清潔時間取決于每個托盤架上累積的殘留量。 (3) 用自來水徹底沖洗托盤架 3 分鐘。 （4）將托盤架浸入硫酸和水（5%重量）的溶液中1分鐘（不能干燥），立即進行下一步（此步驟主要覆蓋氧化層和氧化層） .去除），干燥后重新連接），難以沖洗）。

用脫脂布沾酒精擦拭電極與托盤架的保養翻新托板架和電極長時間使用后會附著氧化層，同時采用等離子體處理烴基材料時，一段時間后在托板架、電極，上會積累一層薄的烴基殘留物，這些殘留物和氧化層是無法用酒精擦拭掉的。應依據附著物的量對電極、托板架進行翻新維護能保證清洗的穩定。清洗材料要求：氫氧化鈉、硫酸、城市用水和蒸餾水。

如欲了解更多有關噴射等離子處理機的詳細內容，或對設備使用有疑問，請點擊 在線客服， 恭候您的來電！。等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。1）對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

電漿中的“活性”成分包括離子、電子、活性基、激發核素、光子等，利用這些活性組分的性質，對樣品進行表面處理，以達到清洗、改性、涂布、光刻膠等目的。。plasma表面處理清洗技術先今已廣泛應用于眾多方面的領域：1.plasma表面處理技術 當天然橡膠、丁苯膠、NBR、氯丁橡膠等表面加濃硫酸處理時，希望橡膠表面輕微氧化，因此，在涂酸后短時間內，要徹底洗去硫酸。

活性炭表面氧化改性

等離子清洗機，活性炭表面氧化改性活性改性處理設備不僅可以提高粘結質量，而且為運用低成本原材料提供了新的技術可能性。 等離子蝕刻機可以徹底解決原材料表層的有機化學污染物質或是有機物污染物質，提升侵潤性，可以顯著更改這類表層的粘結性及焊接工藝抗壓強度并清除殘余物。離子化流程可以很容易地操縱和安全可靠地反復改變。

在線等離子清洗設備清除印刷版去渣和清洗微孔中作用：由于HDI板孔徑較小，活性炭表面氧化改性傳統的化學清洗工藝無法滿足對盲孔結構的清洗要求，液體表面張力使得藥液難以滲入孔洞中，尤其當激光鉆入微盲孔時，其可靠性較差。當前用于微埋盲孔的孔徑清洗工藝主要有超聲清洗和在線等離子清洗設備等離子體清洗，超聲清洗主要是根據氣泡效應實現清洗目的，屬于濕法處理，清洗時間較長，且取決于清洗液的去污性能，增加了處理廢液的難度。