（1）在晶圓制造中的應用在晶圓制造中，電暈和等離子處理機光刻用四氟化碳氣體蝕刻硅片，等離子清洗機用四氟化碳去除氮化硅蝕刻和光刻膠。等離子體清洗機可以在晶圓制造中用純四氟化碳氣體或氮化硅中的四氟化碳和氧氣去除微米光刻膠。(2)PCB制造應用等離子清洗機蝕刻尤其早于電路板制造行業，在硬質電路板和柔性電路板的生產過程中，傳統的工藝都是采用化學清洗。
采用射頻輝光放電技術的等離子體滅菌系統可用于各種生物表面的清潔滅菌。在實驗室中，電暈和等離子處理哪個好經惰性氣體輝光放電預處理的組織培養基平板表面，組織細胞的吸附性大大提高，細胞種植率提高了一倍，因此等離子體處理的基質可靠性也得到提高。在基板表面處理過程中，同時完成基板的殺菌。傳統的殺菌消毒效果并不理想，低溫等離子殺菌消毒技術可以更好地滿足各種現代產品的消毒需求。
關于等離子體組成設備及影響因素--等離子體中粒子的能量一般在幾到幾十電子伏特左右，電暈和等離子處理機大于聚合物數據的結合鍵能（幾到十電子伏特），可以完全打破有機大分子的化學鍵，形成新的鍵；但遠低于高能放射性輻射，高能放射性輻射僅觸及數據表面，不影響襯底性能。在非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中，電子具有更高的能量，能夠打破數據表面分子的化學鍵，提高粒子的化學反應活性（大于熱等離子體），中性粒子的溫度接近室溫。
每種氣體在電子躍遷時會發出不同波長的光，電暈和等離子處理機因此，當你看到不同顏色的光時，當然當你把功率提高到一定程度時，看起來就像是白光，因為光子太多，離子是無方向性和不規則的。當反應發生時，離子不斷攻擊物體表面使其相互碰撞，不同的氣體發出不同顏色的輝光，從而導致不同的物理反應。
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等離子體清洗劑的表面活化：涂敷表面的親水性或疏水性，粘接和沉積前的表面預處理等離子體清洗機表面聚合沉積了具有功能分子基團的聚合物，并將聚合物移植到活化材料表面；通過等離子清洗機的表面處理，提高材料表面潤濕能力，使各種材料能夠進行涂層、電鍍等作業，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。等離子清洗機和蝕刻表面改性等離子清洗設備可根據客戶要求處理粘接材料或改變表面特性。
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