本發明通過將電路板放置于真空反應系統中，氧氣等離子體清潔器通入少量的氧氣，加上高頻高壓，由高頻信號發生器產生高頻信號，在石英管中形成強大的電磁場，使氧離子化，使氧離子、氧原子、氧分子、電子等混合物質形成輝光柱。活性原子態氧能迅速將殘余膠體氧化為揮發性氣體，并使之揮發而被帶走。隨著現代半導體技術的發展，對蝕刻加工的要求越來越高，多晶硅片等離子蝕刻清洗設備也應運而生。產品穩定性是保證產品生產過程穩定，重復性的關鍵因素之一。

因在常壓等離子處理薄膜過程中，氧氣等離子體的工作原理本實驗考慮了多種參數包括時間、功率、氣體流量、氧氣含量、氦氣流量、噴頭高度，實驗結果表明:薄膜的表面形貌發生了明顯的變化，化學結構稍有變化;刻蝕率和溶解厚度隨時間延長先逐漸增加，達到最大值后又有所下降;在氧含量比例一定的情況下，刻蝕率隨氦氣/氧氣混合氣體流量增大而增大;氦氣流量的增加使得刻蝕率先增加后減小;刻蝕率隨功率的增大而增大，隨噴頭距離的增加而減小。

2.2 臭氧的產生是由于含氧氣體在等離子體低溫放電過程中分解成氧原子，氧氣等離子體的工作原理部分氧原子通過碰撞反應形成臭氧。一個臭氧分子由三個氧原子組成。 , 它的化學物質分子式是O3，聞起來像魚。 3.1 等離子清洗機產生的臭氧對人體有危害嗎？臭氧是由攜帶氧原子的氧分子組成，其比重高于氧氣，所以臭氧易溶于水，易分解，常溫下可還原成氧氣。因此，臭氧是一種暫時的條件，在一定條件下可以還原為穩定的氧氣。

線性等離子清洗機10大應用解決材料表面難粘接問題：典型的線性等離子清洗機應用等離子體是在氣體受到高能量放電時產生的：氣體分解成電子，氧氣等離子體的工作原理離子，高度活性自由基，短波紫外光子和其他激發粒子。這些物質當被高能量放電激發時有效地擦洗待清潔的表面。當腔室含有一定量的活性氣體如氧氣時，它將化學反應以及機械轟擊技術結合起來，從而去除有機化合物和殘留物。

氧氣等離子體清潔器

D、紫外線與物體外表的反響紫外線具有很強的光能，（h）可使附著在物體外表的物質的分子鍵發生開裂而分化，并且紫外線具有很強的穿透能力，可透過物體的表層并深化達數微米而發生效果。綜上所述，可知等離子清洗機是利用等離子體內的各種具有高能量的物質的活化效果，將吸附在物體外表的塵垢徹底剝離去除。下面以氧氣等離子體去除物體外表油脂塵垢為例，闡明這些效果。

通常使用的真空泵是旋轉油泵，高頻電源通常用13.56MHz的無線電波，設備的運行過程如下：（1）被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動運行裝置，開始排氣，使真空室的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要2min。（2）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在 pa。根據清洗材質的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮氣等氣體。

等離子體在電磁場內的空間中行進并與要處理的表面碰撞。通過處理、清洗、蝕刻效果、等離子處理工藝選擇的表面，去除表面油污和表面氧化物，焚燒表面（有機物）等化學物質到達表面，可實現重塑。真空等離子清洗機工作流程：真空等離子清潔器包括反應室、電源和真空泵組。通過將樣品放入反應室，真空泵在一定程度上啟動真空泵，打開電源產生等離子體，然后將氣體引入反應室，反應室中的等離子體變成反應等離子體，這些。

這也是與真空等離子清洗的區別之一。等離子真空吸塵器工作時，腔內的離子是定向的。只要材料在型腔的外露部分，任何表面或角落都可以清洗。其次，在氣體的使用方面，大氣等離子體只需要在工作時連接壓縮空氣即可。當然，如果你想要更好的結果，你可以直接連接氮氣。真空等離子清潔器使用更多氣體您可以選擇不同的氣體進行匹配。這極大地改善了材料表面氧化物和納米級微生物的去除。

氧氣等離子體清潔器

7、經過處理后，氧氣等離子體的工作原理可以用普通的膠水來粘合箱體，降低了生產成本。而我們的電漿清洗機正好能解決這些問題，這樣的時候，很多研發機構也已經感覺到了問題的嚴重性，并且投入了大量的資金來引進電漿清潔器的表面處理技術，相信不久我們的電漿清潔器將會有一個新的天地，為全球的工業品創造新的價值，更好的服務。

3.等離子清洗機/等離子清洗設備的結構和工作原理研究等離子清洗機/等離子清洗設備的基本結構調整設備的特征參數以優化工藝流程，氧氣等離子體的工作原理但等離子清洗設備的基本結構幾乎是一樣。是一樣的。控制系統和其他組件。通常使用的真空泵是旋轉油泵，高頻電源通常使用13.56MHz的無線電波。該設備的操作過程如下。 (1)待清洗工件固定真空室，啟動操作裝置，開始排氣。結果，真空室的真空度變為約10Pa的標準真空度。