工件表面上的污染物,如油脂、通量,膠卷,脫模劑,沖壓油,等等,很快就會被氧化成二氧化碳和水,并將由真空泵抽離,從而達到清洗的目的和改善表面滲透和附著力。低溫等離子體處理只涉及材料的表面，二氧化硅等離子體清洗設備不影響材料的性能。由于等離子體清洗是在高真空條件下進行的，等離子體中各種活性離子自由路徑長，穿透性和滲透性強，可以用細管和盲孔等復雜結構進行處理。

等離子體處理過程包括化學反應和物理反應?；瘜W過程:在化學等離子體過程中，二氧化硅plasma表面處理自由基與被清洗物體表面的元素發生化學反應的反應。這些反應的產物是非常小的、易揮發的分子，可以用真空泵泵出。在有機清潔應用中，主要的副產品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化學反應的等離子體清洗，清洗速度快，選擇性好，是去除有機污染物最有效的。缺點是氧化發生在表面。

顯然，二氧化硅plasma表面處理途徑3對于等離子體催化作用下CH4和CO2的轉化無疑是重要的。催化劑在等離子體中的活化主要依賴于與高能電子的碰撞。由于催化劑性質不同，活性不同，對甲烷和二氧化碳的吸附和活化能力也不同。從以上實驗結果可以看出，在同一等離子體的作用下，NiO/ Y-al2o3對甲烷和二氧化碳的吸附和活化能力很強，CH和二氧化碳的轉化率較高。相反，Co2O3/ Y-al2o3對甲烷的吸附和活化作用弱，CH4轉化率低。

大氣等離子清洗機可以去除表面看不見的有機污染物，二氧化硅等離子體清洗設備肉眼看不見的，工件表面的薄膜層。一次超細清洗可解決工件表面粘附問題。例如清洗時，工作氣體往往是氧氣，它被加速的電子轟擊成氧離子、自由基，氧化性極強。零件表面的污染物，如潤滑脂、助焊劑、光敏膜、脫模劑、沖床油等，很快就會被氧化成二氧化碳和水，通過真空泵排出，達到清洗表面的目的。低溫只觸及數據的表面，不影響數據主體的性質。

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最后，它會分解成像水和二氧化碳這樣的簡單分子。在其他情況下，當自由基與表面分子結合時，它們會釋放大量的結合能，這些結合能反過來成為新的表面反應的驅動力，導致表面上的物質被化學去除。

等離子體包括原子、分子、離子、電子和活性基團，被激發的原子、分子和激活的自由基，這些粒子的能量和活度很高，這種能量足以摧毀幾乎所有的化學鍵，能與任何顯示物體外表產生化學反應，讓化學鍵被打開并與修飾過的原子結合等活性很高的物質，數據表面的親水性得到了很大的提高。同時,新化學反應的石油和其他有機大分子表面的數據生成小分子氣體,如二氧化碳,水和其他氣態物質,由真空泵抽走,從而達到分子水平上清潔的表面數據。

大氣等離子清洗機在塑料行業中的應用如何:隨著高新技術產業的快速發展，對產品使用的各種工藝的技術要求越來越高。等離子清洗機表面處理技術的出現，不僅提高了產品性能，提高了生產效率，而且達到了安全環保的效果。等離子清洗機的表面處理技術可應用于材料科學、高分子科學、生物醫學材料、微流體研究、微電子機械系統研究、光學、顯微鏡和牙科保健等領域。

通過等離子體處理N2、NH3、O2、SO2等可以改變聚合物材料的表面化學成分，引入-NH2、-OH、COOH、SO3H等新的官能團。這些官能團可使聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯等完全惰性基材變成官能團材料，可改善表面極性、滲透性、粘結性、反應性，大大提高其使用價值。與氧等離子體不同，低溫等離子體處理后，可將氟原子引入基板表面，使基板疏水。

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形成裝置及影響因素熱等離子體一般是由常壓氣體電暈放電產生，二氧化硅plasma表面處理而冷等離子體是由低壓氣體輝光放電產生。熱等離子體設備[4]利用帶電體尖端(如刀或針尖和狹縫電極)引起電場不均勻，稱為電暈放電。電壓和頻率、電極間距、加工溫度和時間都影響電暈處理效果。隨著電源電壓和頻率的增加，處理強度高，處理效果好。但是，如果工頻過高或電極間隙過寬，則電極之間會發生過多的離子碰撞，造成不必要的能量損失。

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