②化妝品容器表面光滑、滑、光滑、干凈、無皺紋、無粗糙、無明顯劃痕和擦傷。③化妝品容器的絲印、噴墨、噴墨、擦洗試驗不脫色、脫落。 綜上所述，陶氏附著力達到4b等級等離子表面處理技術在化妝品容器中的應用，不僅能改善油墨、絲印的附著力，而且能提高表面處理的質量，滿足女性對容器品質和健康的雙重要求。隨著技術的進步和需求數量的增加，表面處理的效率和設備投入的成本，將是等離子表面處理工藝普及的趨勢！。

由于等離子清洗是一種” 干式”的清洗工藝處理完后材料能夠立即進入下一一步的加工過程，陶氏附著力達到4b等級因而，等離子清洗是- -種穩定而又高(效)的工藝過程由于等離子體所具有的高能量，材料表面的化學物質或有(機)污染物能夠被分解，所有可能干擾附著的雜質被有效去除，從而使材料表面達到后續涂裝I藝所要求很好的條件。

原因是聚合物表面的交聯增強了邊界層的附著力，附著力達到4b或者等離子體處理過程中偶極子的引入提高了聚合物表面的附著力，或者等離子體處理消除了聚合物表面的附著力。可能是這樣。改善聚合物表面、污垢和附著力。電暈處理具有相同的效果。。等離子噴涂是一種材料表面強化和表面改性技術，可賦予基材表面耐磨、耐腐蝕、耐高溫氧化、電絕緣、絕緣、防輻射、減磨、密封等性能。

它是電流信號的上升前沿，附著力達到4b不會進入輝光放電等級。這表明DBD區域的放電模式隨著外加電壓的增加而改變，但高壓電極外的等離子射流區域的流光放電模式不受影響。也就是等離子兩邊電壓高。電極彼此獨立地形成和分布。從以上實驗可以看出，雖然選擇了DBD放電配置，但等離子體射流實際上是由于高壓電極邊緣的強電場，氣體破壞形成的，與DBD無關。即等離子射流是由電暈放電機構形成的。

陶氏附著力達到4b等級

通過與電離氣體和壓縮空氣的化學反應加速的活性氣體射流去除污染顆粒，將它們轉化為氣相，并通過真空泵以連續氣流排出。如此獲得的純度等級較高。當發生氧化銅還原反應時，氧化銅與氫氣的混合氣體等離子體接觸，氧化物發生化學還原反應產生水蒸氣。混合氣體中含有Ar/H2或N2/H2，H2含量明顯小于5%。大氣壓等離子體在運行期間具有非常高的氣體消耗。

等離子體是電中性基團，但它含有大量的電子、離子、受激分子原子、自由基、光子等活性粒子，它們的能量范圍為1～10eV，這樣的能量。我知道是一個等級。由于這是纖維材料中（有機）分子結合能的能量范圍，等離子體中的活性粒子與纖維材料表面發生物理和化學相互作用，如解吸、濺射、激發、蝕刻等有。化學反應，如交聯、氧化、聚合和接枝。。說到等離子清洗機，大家都認為等離子表面處理設備并沒有錯。

印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。等離子處理機在玻璃上應用。

等離子體清洗機是利用等離子體中各種高能物質的活化作用，徹底剝離吸附在物體表面的污垢。現有的等離子體清洗機主要分為兩大類，一類是常壓等離子體清洗機，一類是真空等離子體清洗機。常壓等離子體清洗機由等離子體發生器、氣體管道和等離子體噴嘴組成。等離子體發生器產生的高壓高頻能量激活和控制噴嘴管內輝光放電形成低溫等離子體。等離子體通過壓縮空氣注入工件表面。當等離子體與被處理物體表面接觸時，其物體會發生變化。

陶氏附著力達到4b等級

等離子表面處理后的材料有不同的時效性，陶氏附著力達到4b等級因此處理后當即印刷、噴涂、粘接、復合。影響等離子表面處理效(果)的因素有處理時間及距離，速度，印刷性和粘接力隨時間的增加而提高隨溫度升高而提高，實際操作中，通過采取降(低)牽引速率、趁熱處理等方法，以改善效(果)。。

導致翹曲的因素還包括諸如塑封料成分、模塑料濕氣、封裝的幾何結構等等。通過對塑封材料和成分、工藝參數、封裝結構和封裝前環境的把控，附著力達到4b可以將封裝翹曲降低到最小。在某些情況下，可以通過封裝電子組件的背面來進行翹曲的補償。例如，大陶瓷電路板或多層板的外部連接位于同一側，對他們進行背面封裝可以減小翹曲。芯片破裂封裝工藝中產生的應力會導致芯片破裂。封裝工藝通常會加重前道組裝工藝中形成的微裂縫。