等離子刻蝕是利用純四氟化碳氣體或四氟化碳與氧配合的方式，噴漆附著力是幾級的在晶圓制造過程中對氮化硅進行微米級的刻蝕，在氫氣和氧配合的方式下，去除微米級的光刻膠。
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等離子體清洗形成的微觀粗化表面是原子或分子級的。從宏觀上看, 基片表面去除水汽、污物后, 更加平整和均勻。沉積上ITO膜后, 可獲得更加均勻一致的可見光透射比和電導率。
再將氣體引入反應室，噴漆附著力是幾級的標準使室中的等離子體成為反應等離子體，與樣品表面反應產生揮發性副產物，由真空泵抽出。真空等離子清洗機沒那么復雜，按工頻分，40kHz和13.56MHz為例：正常情況下，材料放入腔體工作，頻率為40kHz，一般溫度在65以下。而且，該機配備了強勁的散熱風扇。如果處理時間不長，材料表面溫度會與室溫一致。13.56MHz的頻率更低，通常低于30。
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等離子表面處理設備可以穩定這些材料并將它們與高質量結合起來。如今，隨著消費者對現代汽車的高性能、卓越的舒適性和駕駛安全性的期望越來越高，汽車制造商也提出了更深、更高的技術要求。等離子表面處理技術是高質量、無VOXS、無化學處理的基本前提。它不僅應用在上述的一些主要領域，而且在汽車制造領域也無孔不入，因此被行業內的制造商所采用，是每一個制造過程中不可缺少的元素。。
3.將待處理樣品置于樣品板之上。4.將樣品板水平推入到位，關閉反應腔門。5.開啟總電源開關，等待觸摸屏啟動完畢。6.參數設定及程序選擇。7.手動時按實驗人員的意向進行操作。8.自動時，按下“啟動”按鈕，設備自動開始處理過程，當處理過程結束后，自動進入到提醒頁面，按“確認”后回到主頁面，等待再次進行實驗。同時蜂鳴器鳴響，提醒操作人員實驗已經完成。10秒中后蜂鳴器自動關閉。9.打開反應腔門，將樣品取出。
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