因此，環氧底漆附著力不好的原因應根據實際情況和去污要求，設定具體合適的主要工藝參數。這是決定等離子設備清洗有效性的六個因素。任何問題都可以關注（官網）。。
就反應機理來看，環氧底漆附著力不好的原因等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。等離子清洗機真空度關聯因素包括真空腔體漏率、背底真空、真空泵的抽速和工藝氣體的進氣流量等。
但是在充入多種氣體時，環氧底漆附著力不好的原因還有更多因素需要考慮，比如選取的氫氣純度越高，產生的氫離子會越多，相應的清洗氧化物的速度越快，雖然反應效率提高，但是不可忽視氫氣作為易燃易爆氣體，具有很高的危險性，所以當考慮充入混合氣體時，通常會將氫氣與氬氣等其他氣體充入一起，要將氫氣的占比處在一個相對安全的位置，可以達到效率最大化。清洗不同物質還需要探索更優質的方法和工藝，不斷提高清洗的效果。。
隨著光刻膠掩膜的逐漸減少，底漆附著力不好因素已經無法良好地保護下層材料時，即導致第二種條紋現象，這種條紋通常僅僅存在于通孔的頂部，差情況時可能發生通孔的橋連。 為避免第二種條紋，需要在主蝕刻步驟中產生更多的聚合物并堆積在光刻膠的表面，以減少光刻膠的損耗，即需要提高對光刻膠的選擇比。
環氧底漆附著力不好的原因
這一方面是由于體系中過量的活性氧與CH4分子反應形成氧化產物，另一方面是C2烴類產物，促使C2H6、C2H4、C2H2轉化為氧化產物。CO產率隨CO2濃度的增加而增加，當CO2濃度大于50%時CO產率趨于穩定。同時，隨著CO2濃度從15%增加到85%，產物中H2和CO的摩爾比從3.5下降到0.6。
1.放電功率、時間、溫度：對于相同的處理時間，放電功率和等離子體沖擊能量越大，處理效果越高。隨著處理時間的增加，真空室中的電極在真空等離子清潔器和氣體溫度下會升高，此時 PTFE 材料將更容易變形。 2.工藝氣體類型、比例和工藝步驟：根據工藝氣體的類型、比例和處理步驟，產生的 PTFE Teflon 等離子體活化效果會有很大差異。 3、真空度、氣體流量速度。
等離子發生器可以使操作人員遠離對人體有害的有害溶劑。大多數真空泵低溫等離子發生器設備使用真空泵來抽吸和干燥油泵的空腔。一些應用程序是獨立的，而其他應用程序是組合的。低溫等離子發生器，中小型真空泵。操作面板的核心部分由功能鍵、狀態指示燈、蜂鳴器電路及指示燈、額定功率控制面板、統計顯示真空計、定時器、旋鈕開關、浮球總流量等組成。它由儀表板和其他組件組成。
處于非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中，電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學鍵,提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫，這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。
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