接下來分析了等離子體清洗在ITO領域的應用特點。氧化銦錫(ITO)是一種重要的透明半導體材料。一方面，硅烷做附著力促進劑的濃度它具有穩定的化學性質，良好的透光性和導電性，因此在光電工業中得到廣泛的應用。ITO在沉積過程中形成高度簡單的n型半導體。在Sn摻雜情況下，費米能級Er在導帶底EC以上，載流子濃度高，電阻率低。此外，ITO具有較寬的光學帶隙，因此可見光和近紅外光的透過率更高。
黃青課題組利用射頻驅動氫等離子體處理氧化石墨烯后，附著力促進劑343 乙發現其滅菌能力顯著提高。未經處理的氧化石墨烯在0.5毫克/毫升濃度下，未表現出明顯的滅菌能力，而處理后的氧化石墨烯在0.02毫克/毫升濃度下，即可引起近90%細菌的滅活。 “搞明白低溫等離子體的各種滅菌機制，是我們課題組的重要努力方向?！秉S青透露。
如果影響主要是物理的，附著力促進劑343 乙則應降低壓力并增加離子能量。如果該作用主要是化學作用，則需要增加一些壓力以確保反應氣體的濃度。清洗時間還需要保證清洗效率和能耗，金屬電極會干擾等離子清洗效率。金屬電極的設計極大地阻礙了等離子清洗的效果，主要是金屬電極的材料、布局和尺寸。
主要電氣控制部分包括:真空泵、射頻功率、真空計,計時器,流量計,綠色電源指示燈,蜂鳴器,功率調節器,空按鈕(自鎖),一個按鈕(自鎖)氣體,氣體的第二個按鈕(自鎖),高頻電源按鈕(自鎖)、真空泵按鈕(自鎖),總功率旋鈕開關。。等離子體發生器可以使操作人員遠離對人體有害的溶劑:真空泵低溫等離子體發生器的設備絕大多數都是真空泵吸干、泵腔抽吸。一些應用程序是獨立的，附著力促進劑343 乙其他應用程序是合并的。
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一般而言，相似粒子之間發生碰撞的概率較大，能量傳遞有效，碰撞趨向于達到平衡狀態，根據麥克斯韋分布，各自有各自的熱力學平衡溫度。離子-離子碰撞在稱為離子溫度的特定溫度 Ti 達到熱力學平衡，但由于電子和離子之間的質量差很大，也會發生碰撞，但可能不會達到平衡。 Ti 并不總是相同的。在接近大氣壓的高壓條件下放電時，電子、離子和中性粒子因劇烈碰撞而完全（完全）交換動能，等離子體處于熱平衡狀態。
低溫等離子體電源的完整性在電力系統規劃中應注意的幾個問題；低溫等離子體電源完整性電源系統噪聲裕度分析大多數芯片都會給出一個正常的工作電壓范圍，通常±；5%。傳統穩壓器的輸出電壓精度一般±；2.5%，因此電源噪聲峰值幅度不應大于±；2.5%。精度是有條件的，包括負荷條件、工作溫度等限制，所以要有余量。二是整機低溫等離子體電源噪聲裕度的計算。
等離子體清氧器通常用來清洗有機物表面并進行氧化反應。等離子清洗機用于清洗表面氧化純氫可能效率高，但它通常要考慮電離的穩定性和安全性，在使用氫等離子清洗機時選擇氬氣混合比較合適，除易氧化或還原的村等離子清洗機外，還可以采用倒置氫氣、氧氣和氬氣的順序清洗，以達到徹底清洗的主要目的。
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