等離子體處理技術是利用等離子體的特殊特性的具體應用:等離子體處理系統(tǒng)生產的等離子體裝置是設置在一個密閉容器內，不同材質的附著力兩個電極用真空泵形成電場以達到一定的真空程度，隨著氣體變得越來越薄，分子間距和自由運動的分子或離子之間的距離也越來越長,電場,它們碰撞,形成等離子體,這些離子的活性非常高,它的能量就足以破壞幾乎所有的化學鍵,使化學反應在任何暴露的表面,不同的氣體等離子體具有不同的化學性質，如氧等離子體具有高氧化性，可以氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體等離子體具有良好的各向異性，因此可以滿足腐蝕的需要。

等離子體裝置內可能發(fā)生各種化學反應，不同材質的附著力主要與電子的平均勢能、電子密度、溫度、廢氣的分子濃度和共存氣體成分有關。非平衡等離子體處理污染控制技術：等離子輔助處理技術可以減少空氣污染對環(huán)境的危害。血漿功能產生更多的活性成分。等離子處理技術提供了比傳統(tǒng)熱激發(fā)技術更具反應性的消化途徑。由于電子的勢能分布不平衡，與非平衡等離子體中重粒子的分布不同，可以認為含電子氣體的溫度遠高于氣體的溫度。含有中性粒子和離子。

廣泛應用于手機電子、半導體等相對精細的配件表面處理。等離子清洗機雖然原理不同，硅膠在不同材質上的附著力但在實際應用中，由于每種材料的要求和特點，對應的是每臺等離子清洗機的設計理念和清洗工藝是不一樣的，等離子清洗機是定制產品，主要根據(jù)客戶需要的清潔材料和具體的要求定做。在具體的使用上，也有一些特別注意的地方。機器安裝時，需要有本機器的技術人員再教你操作，弄清楚本機器的使用說明和注意事項，設置清洗參數(shù)。

避免晶圓之間的相互污染。在 45nm 之前，硅膠在不同材質上的附著力自動清潔站能夠滿足清潔要求，并且至今仍在使用。 45nm以下工藝節(jié)點采用單片清洗設備，滿足清洗精度要求。隨著未來工藝節(jié)點的不斷減少，單晶圓清洗設備是當今可預見技術中的主流清洗設備。

不同材質的附著力

根據(jù)清潔劑的不同，可以選擇氧氣、氫氣、氬氣或氮氣作為分貝。 3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，通過輝光放電將氣體分解并電離，產生等離子體。待處理的工件完全包裹在真空室內產生的等離子體中，開始清洗。一般來說，清洗過程持續(xù)幾十秒到幾分鐘，這取決于材料和要求。 4、清洗后，切斷高頻電壓，用真空泵除去氣體和氣態(tài)污垢。等離子與工件表面的具體作用是：等離子體與工件表面的化學反應與傳統(tǒng)的化學反應有很大不同。

等離子體清洗是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基和所發(fā)射的光束與清潔表面的污染物分子結構發(fā)生活化反應，從而去除污染物。在等離子體清洗機中，電子設備與原子或分子結構的碰撞也可以形成激發(fā)態(tài)的中性原子或自由基(也稱氧自由基)。這種激發(fā)態(tài)的原子或氧自由基與污染物的分子結構出現(xiàn)活化反射，使污染物分離金屬表面。

離子清洗省了濕化學處理過程中不可缺少的干燥、廢水處理等工序；若與其它干處理工藝，例如輻射線，與電子束加工、電暈等相比，電漿清洗設備獨特的地方是，它對材質的作用僅發(fā)生在其表面數(shù)十至數(shù)千埃厚度范圍內，不僅改變了材質的表面特性，而且不改變本體特性。 使用等離子轟擊物體表面，可以建立物體的表面腐蝕、激活和清洗等功能。

軔致輻射是自由電子與離子之間的碰撞，即電子在庫侖場中隨著離子速度的變化而產生的連續(xù)輻射。電子-電子碰撞不會改變電子的總動量，因此不會產生軔致輻射。等離子體中的軔致輻射主要來自遠碰撞，其波長一般在紫外到x射線之間。對高溫等離子體來說，輻射損耗是一個非常重要的問題。回波輻射，又稱回旋加速輻射，是帶電粒子(主要是電子)圍繞磁力線旋轉時產生的輻射。

硅膠在不同材質上的附著力