表層等離子體表面處理儀選用低溫plasma工藝對AP粉體表層做好改性: 高氯酸銨作為一種新型氧化劑,南京等離子清洗機(jī)廠家排名常用于復(fù)合固體推進(jìn)劑、改性雙基推進(jìn)劑和硝酸酯熱塑性樹脂聚醚多元醇(NEPE)推進(jìn)劑,有著氧含量高、焓大、熱穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。目前,為了提高推進(jìn)劑的燃燒速度,超細(xì)高氯酸銨已廣泛應(yīng)用于推進(jìn)劑中。但隨著粒度的減小,比表面積的增大,超細(xì)AP粉有著很強(qiáng)的吸水性,容易聚集成塊狀,嚴(yán)重影響推進(jìn)劑的使用成效。

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但在現(xiàn)實(shí)中,南京等離子清洗機(jī)品牌料箱本身的一些因素對等離子處理的效果也有顯著影響。 1) 規(guī)格不同規(guī)格尺寸的銅引線框架所用料盒的大小也不同,料盒的大小與等離子清洗工藝的效果有一定的關(guān)系。料箱尺寸越大,等離子在筒內(nèi)停留的時(shí)間越長,等離子處理的均勻性和有效性受到的影響就越大。 2) 區(qū)間大小這里所說的間距主要是指每層銅引線框架之間的距離。間距越小,銅引線框架的等離子清洗效果和均勻性越差。

等離子體輔助清洗技能是一種先進(jìn)制造工業(yè)中的精密清洗技能,南京等離子清洗機(jī)廠家排名在許多工業(yè)領(lǐng)域都能夠運(yùn)用到這種清洗技能,下面為大家介紹一下,等離子清洗機(jī)清洗技能在半導(dǎo)體制造中的運(yùn)用。 化學(xué)氣相堆積(CVD)和刻蝕被廣泛運(yùn)用于半導(dǎo)體加工過程中,運(yùn)用CVD能夠堆積多晶硅薄膜、氮化硅薄膜、二氧化硅薄膜和金屬薄膜(如鎢)。此外,微三級管及電路中起銜接效果的細(xì)導(dǎo)線也是在絕緣層上通過CVD工藝制成的。

在高頻升壓電路的設(shè)計(jì)上,南京等離子清洗機(jī)廠家排名系統(tǒng)采用以LC諧振為理論基礎(chǔ)的高頻諧振固態(tài)特斯拉升壓電路。電路由低壓輸入端、主電容組、諧振通斷器、初次級線圈、 放電端構(gòu)成可以在放電端形成高壓電場,以實(shí)現(xiàn)在高頻高壓條件下的等離子體發(fā)生。高頻高壓等離子發(fā)生器系統(tǒng),通過移相全橋控制電路提供控制信號在功率晶體管驅(qū)動下,經(jīng)高頻諧振升壓電路對輸入信號升壓實(shí)現(xiàn)等離子體的穩(wěn)定發(fā)生,實(shí)現(xiàn)了驅(qū)動管耗的降低和輸入電源效率的提升。。

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