微波等離子清洗機(jī)可分為三種模式，即順流模式、旋轉(zhuǎn)模式及ECR模式。由于激發(fā)頻率高，離子動(dòng)能小，離子濃度高，化學(xué)等離子作用在微波等離子體中占主要部分，可以實(shí)現(xiàn)更均勻有效地清洗，在清洗中幾乎沒有物理等離子體所產(chǎn)生的物理沖擊和濺射現(xiàn)象，所以微波等離子清洗機(jī)在一些敏感器件制程中的去膠和清洗工藝中具有不可替代性。
順流及旋轉(zhuǎn)清洗模式原理
順流模式及旋轉(zhuǎn)模式微波等離子清洗屬于普通的微波等離子體系統(tǒng)，其微波反應(yīng)腔中不存在穩(wěn)態(tài)磁場，此時(shí)微波能量耦合是通過彈性碰撞以及非彈性碰撞實(shí)現(xiàn)的。而通過碰撞的方式將微波能量傳遞給電子的關(guān)鍵是碰撞幾率和饋入微波能量，如果要使電子的能量達(dá)到一定程度，就必須增大電子密度或者增加饋入微波的能量，增加電子密度意味著對氣體的成分及密度要求較高，而氣體密度的增大會對系統(tǒng)的穩(wěn)定工作造成影響；增加饋入微波的能量則需要增加微波源的功率、或者減少微波傳輸系統(tǒng)的損耗，而在工程上這些都是要受到具體條件限制的。這些問題就造成了普通微波等離子體系統(tǒng)很難產(chǎn)生高密度、高均勻度的等離子體，無法滿足一些特殊工藝的要求。
電子的有效碰撞頻率是放電氣壓的函數(shù)，研究表明，對于氦氣，微波激發(fā)頻率為時(shí)，維持無磁場放電的氦氣氣壓范圍是—。在低氣壓下≤時(shí)電子和中性粒子、電子和離子碰撞平均自由程都很長，即電子的有效碰撞頻率很小，在此條件下為維持無磁場放電需要較高的微波輸入功率和高值的諧振腔體，這是難以做到的。
因此普通微波等離子體系統(tǒng)多作為一種對化學(xué)反應(yīng)的催化手段應(yīng)用在化工領(lǐng)域，或應(yīng)用于一些基礎(chǔ)的材料處理領(lǐng)域，這些領(lǐng)域都對激發(fā)產(chǎn)生的等離子體密、度均勻度要求較低。而在大規(guī)模集成電路制造工藝、高質(zhì)量材料表面改性處理等領(lǐng)域，對等離子體的密度、均勻度、穩(wěn)定度都要求很高，普通微波等離子體系統(tǒng)或者不能勝任、或者需要靠大幅度增加系統(tǒng)復(fù)雜性和成本的方法才能夠滿足要求。
ECR清洗模式原理
電子回旋共振（ECR）微波等離子體系統(tǒng)是微波源與磁場共同組合的一種等離子體產(chǎn)生法，電子在磁場中作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，當(dāng)磁場強(qiáng)度越來越強(qiáng)時(shí)，電子旋轉(zhuǎn)的速度會越快，當(dāng)磁場強(qiáng)度與微波源頻率相近時(shí)產(chǎn)生共振，此共振現(xiàn)象有利于電子吸收微波的能量，并擁有較高能量的電子，有助于等離子體的產(chǎn)生。微波等離子體系統(tǒng)與傳統(tǒng)的微波等離子體系統(tǒng)相比，具有更加優(yōu)良的綜合指標(biāo)，而且對微波源和微波反應(yīng)腔的要求大為降低，提高了材料表面改性處理、微電子、大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域中的低溫等離子體加工水平。24434