由于大型等離子清洗機蝕刻后的金屬硬掩膜圖形將作為溝槽蝕刻的掩膜層使用，物理氣相沉積中膜層附著力金屬硬掩膜層蝕刻后的圖形完整度、關鍵尺寸都將被再次傳遞到(超)低介電常數材料，經過溝槽蝕刻形成金屬連線。金屬硬掩膜層蝕刻后圖形對于設計圖形傳遞的保真度、蝕刻后關鍵尺寸偏差的負載效應，都將被后續的溝槽蝕刻傳承甚至由于溝槽蝕刻的負載效應會繼續放大這些偏差，因此，大型等離子清洗機需要對金屬硬掩膜層蝕刻進行嚴格控制。

　　采用等離子清洗技術對陰極面板表面進行處理，物理氣相沉積中膜層附著力既可以清潔陰極面板的表面，又可以增加陰極面板的表面活性，滿足多堿光電陰極的制作要求，使多堿光電陰極膜層的生長質量達到傳統酒石酸溶液浸泡處理后的效果。　　同時等離子清洗技術與傳統的酒石酸溶液浸泡相比，效率更高，且減少了酒石酸溶液、去離子水及酒精等資源的使用，達到了降低成本和保護環境的目的。

在氮化硅薄膜中，物理氣相沉積中膜層附著力H的濃度與后續的氫氟酸刻蝕速率密切相關。通過控制氮化硅膜層中氫的濃度，可以實現改變性質的氮化硅膜層與體氮化硅膜層之間的選擇性刻蝕比。在鍺硅材料側壁刻蝕中，當等離子體火焰刻蝕停止時，采用這種類原子層刻蝕方法可以將硅存儲損耗控制在6%；內在。。等離子火焰機的噴槍噴出低溫等離子體，形狀像火焰但不會點燃包裝盒。但為了方便客戶，等離子火焰機還具有高安全性、高聯鎖的功能。

近年來機械制造業普遍采用物理清洗和化學清洗，膜層附著力大于1kg根據清洗用途可分為濕清洗和干式清洗兩種，等離子清洗機plasma電漿干式清洗在電子產品的工業生產中得到廣泛應用。 濕法清洗關鍵是借助物理和化學(有機溶劑)的功效，如吸附、滲透、分解、分離等，以超聲波、噴霧、旋轉、機械振動等物理特性去除污垢，這種清洗作用和應用領域不同，清洗效果也有一定差異。

膜層附著力大于1kg

等離子體表面處理的原理是給一組電極提供射頻電源，電極之間形成高頻交變電場，區域內的氣體在交變電場的攪動下形成等離子體。活性等離子體對物體表面進行物理轟擊和化學反應，使被清洗物體的表面物質變成顆粒和氣態物質，從而達到表面處理的目的。等離子體表面處理具有性能穩定、性價比高、操作簡單、使用成本低、易于維護等特點。

, 設備主體結構及電氣控制系統等。等離子體：等離子體是由離子、電子、自由基、光子和中性粒子組成的電離氣體，正電子和電子的密度大致相同，整體呈電中性。大氣等離子清洗清洗原理：等離子清洗可以去除樣品表面的污染物，通過用等離子體處理樣品表面來提高其表面活性?？梢詾槊糠N污染物選擇不同的清潔工藝。根據產生的等離子種類不同，等離子清洗可分為化學清洗、物理清洗和物理化學清洗。等離子清洗是一種高度精確的干洗方法。

關于風險廢物的處理，我過常用的是傳統的燃燒爐設備，可是其處理卻有不少的缺點： 1、燃燒法出資大，占用資金周期長。 2、燃燒對廢物的熱值有必定要求，一般不能低于5000kJ/kg，綁縛了它的運用規模。 3、燃燒進程中發生的廢棄物，必須有很大的資金投入才能進行有用處理。 4、耗費許多電能，留下殘留物，可能會發生有毒的物質，構成2次污染 5、設備出資大，技能集成較高，處理確保水平要求也高。

長壽命主機與噴槍可連續24小時不間斷工作，處理寬度2-4mm，適合微小細縫處理，特殊設計的噴槍具有氣體冷卻功能。超低溫10mm等離子處理設備技術參數： 處理寬度：4-10mm 處理速度：10～50m/min 噴槍外尺寸：φ32*232 (mm) 重量：約0.5KG 噴槍套管長度：3米超低溫等離子處理設備適合處理物品： 1、LCD 綁定專用等離子處理。

物理氣相沉積中膜層附著力

真空等離子體設備僅涉及復合材料(10- 1000a)的淺層表面，物理氣相沉積中膜層附著力在保持材料自身特性的同時，可賦予一種或多種新功能;真空等離子設備結構簡單，操作維護方便，可以連續運行，經常幾瓶蒸汽就可以代替1000kg以上的清洗液體，所以清洗成本將大大低于濕法清洗。真空等離子體設備全過程可控:所有參數均可電腦設定，數據統計，質量管理。真空等離子設備處置幾何形狀不限:大或小，簡單或復雜，零件或紡織產品，全部可以處置。。