以下讓 介紹常壓等離子清洗機與真空等離子清洗機結構.常壓等離子清洗機系統由三大主要部分組成：1、主機連接電源連接冷卻的處理氣體高射頻電壓等離子源控制模塊氣體控制模塊前面板的操作控制系統。2、傳輸氣體和能量的柔性導管。3、等離子噴頭：由中間電極、外部電極和絕緣區域組成。 ● 高壓射頻發生器將常電壓轉變成高電壓（超過10KV），附著力劃痕試驗中斷處理這對于形成高壓放電是必須的。
一般清洗處理持續幾十秒到幾分鐘。清洗完畢后切斷高頻電壓，附著力劃圈法 級別圖并將氣體及汽化的污垢排出，同時向真空室內鼓入氣體，并使氣壓升至一個大氣壓。給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場，區域內氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對物體表面進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，經過抽真空排出，而達到表面處理的目的。。
該技術在半導體制造領域應用較早，附著力劃圈法 級別圖是一種必不可少的半導體制造工藝。因此，在IC加工中是一項長期而成熟的技術。因為暈等離子處理機產生的等離子體是一種高能、高活性的物質，對（任）何有（機）材料等都有很好的蝕刻（效）果，電暈等離子處理機產生的等離子體的制作是干法處理的，不會造成污染，所以近年來已經被大量應用于半導體產品的制作。
今天給大家普及一下等離子清洗電源的頻率知識，附著力劃圈法 級別圖40KHZ電源，也就是俗稱的中頻電源，簡單的說能量高，但等離子密度低。真空等離子清洗基本選用中頻電源。這是由于真空腔體尺寸大（通常大于 L，電極板數量較多，相對于射頻中頻來說是高輸出電源。5000W、10KW、20KW等本身更穩定）產生的等離子體中的分子和離子具有高動能，高滲透性，強調物理反應。
附著力劃圈法 級別圖
等離子體輝光放電由于其電子能量和電子密度高，可以通過激發碰撞產生可見光而被提及。下面通過比較常見的等離子清洗機臥式電極結構來了解一下。真空等離子體吸塵器的輝光放電通常需要在低壓環境下進行。為了在大氣壓下產生輝光放電，需要一定的外部電路條件和陰極的持續冷卻。輝光放電的特征參數如下表所示。。
直接等離子體具有較低浸蝕但工件卻暴露在射線區。順流等離子是種較弱的工藝，它適合去除厚為10-50埃的薄層。 在射線區或等離子中，人們擔心工件受到損壞，目前，這種擔心還沒有證據，看來只有在重復的高射線區和延長處理時間到60-120分鐘才可能發生，正常情況下，這樣的條件只在大的薄片及不是短時的清洗中。。
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批量配氣系統中集中儲氣供氣的優點一是供氣可靠穩定，二是減少了雜質顆粒的污染源，二是減少了日常供氣中的人為干擾。常見的氣體通常分為惰性氣體、還原性氣體和氧化性氣體，如表 6.1 所示。
附著力劃痕試驗中斷處理
