然后電鍍包含通孔的圖案化跡線。這種技術(shù)的明顯優(yōu)勢是它只需要一次成像操作。但是，小面積鍍層測附著力缺點是巨大的，包括： 1) 總體跡線圖案必須物理連接，以便始終執(zhí)行電鍍。如果電氣連接中斷，表面將不再電鍍。 2) 這些痕跡會導致電流密度和分布不均勻，從而影響鍍層厚度的一致性。 3) 與圖案電鍍工藝類似，所有走線都是鍍銅的，這會導致靈活性和阻抗控制問題。 4) 細線跡會限制電流容量并可能導致電鍍問題。

在電鍍前，鍍層測附著力外殼表面不可避免地形成各種污染物，包括灰塵、固體顆粒、有機物等，同時由于自然氧化，還存在氧化層。電鍍前必須清洗被鍍件表面，否則會影響鍍層與基體的結(jié)合力，造成鍍層剝落、起泡。為了去除這類污染物，采用甲苯、丙酮、酒精等有機溶劑進行超聲波清洗。但一方面這種方法不徹底，容易造成涂層缺陷。另一方面增加了制造成本，造成環(huán)境問題。

通常采用機械方式，鍍層測附著力使孔邊和內(nèi)孔壁無倒刺或堵孔的現(xiàn)象產(chǎn)生． 2．除油污 3.粗化處理：主要保證金屬鍍層與基體之間良好的結(jié)合強度。 4．活化處理：主要形成“引發(fā)中心”，使銅沉積均勻一致。

如果柵氧化區(qū)面積小，小面積鍍層測附著力柵區(qū)面積大，大面積柵收集的離子會流向小面積柵氧化區(qū)。注入柵極的隧道電流也需要襯底來保持電荷平衡。隨著這種增加，增加的因素是柵極的氧化面積與柵極的比值，損壞效應(yīng)增加。這是一種稱為“天線效應(yīng)”的現(xiàn)象。對于柵極注入，隧穿電流和離子電流之和等于等離子體中的總電子電流。由于大電流，只要柵氧化層的場強可以產(chǎn)生隧穿電流而不增加天線的實用性，就會發(fā)生等離子體損壞。

鍍層測附著力

...平帶電壓、漏電流等參數(shù)。具有天線器件結(jié)構(gòu)的大面積離子收集區(qū)（多晶或金屬）通常位于厚場氧化物上，因此只需考慮隧道電流對薄柵氧化物的影響。收集區(qū)的大面積稱為天線，帶天線的器件的隧穿電流放大系數(shù)等于厚場氧化物收集區(qū)面積與氧化層面積之比柵極氧化物。該面積稱為天線比。如果柵氧化區(qū)面積小，柵區(qū)面積大，大面積柵收集的離子會流向小面積柵氧化區(qū)。注入柵極的隧道電流也需要襯底來保持電荷平衡。

如果柵氧區(qū)較小，而柵極面積較大，大面積柵極收集到的離子將流向小面積的柵氧區(qū)，為了保持電荷平衡，由襯底注人柵極的隧道電流也需要隨之增加，增加的倍數(shù)是柵極與柵氧面積之比，增加了損傷效用，這種現(xiàn)象稱為“天線效用”。對于柵注入的情況，隧道電流和離子電流之和等于plasma中總的電子電流。因為電流很大，即使沒有天線的增加效用，只要柵氧化層中的場強能產(chǎn)生隧道電流，就會引起plasma損傷。

此外，材料的性質(zhì)不同，其初始表面可以不同，反映的液滴角度數(shù)據(jù)也不同，一般來說，有機材料由于材料的不同，加工前后差異較大，而無機材料則通過等離子體處理去除表面油污和表面粗化，使水滴的數(shù)量角保持在較低水平。還需要注意的是，液滴角度測試需要對變量進行控制，即統(tǒng)一每個測試的液滴尺寸，確保測試用水量不發(fā)生顯著變化。dyne筆測試法是一種成本低、測量快、操作簡單的方法。

在蝕刻過程中，添加CHF3、N2、CH4等氣體以快速形成聚合物并提供側(cè)壁保護。這優(yōu)先將氟、氮或碳氫化合物吸附到金屬鋁側(cè)壁，進一步減少氯原子和鋁側(cè)壁。 壁接觸反應(yīng)以保護側(cè)壁，增加氯基氣體對金屬鋁的各向異性蝕刻能力。等離子工業(yè)清洗機研究了這三種不同氣體對蝕刻后金屬鋁側(cè)壁形態(tài)的影響。結(jié)果表明，N2保護氣體在刻蝕過程中產(chǎn)生了過多的側(cè)壁保護，并傾向于形成梯形側(cè)壁。

小面積鍍層測附著力

當樣品放入反應(yīng)室時，小面積鍍層測附著力真空泵啟動真空泵到一定程度，接通電源產(chǎn)生等離子體，氣體通過反應(yīng)室內(nèi)的等離子體進入反應(yīng)室，樣品與volatile 產(chǎn)生的副產(chǎn)品。它由真空泵提取。真空等離子清洗機中的等離子在宏觀水平上是電中性的。在正常情況下，等離子體是電中性的，但如果受到任何干擾，等離子體中的部分電荷就會分離出來，從而產(chǎn)生電場。

等離子清洗機不放電或放電不穩(wěn)定，鍍層測附著力往往是等離子發(fā)生器阻抗匹配出的情況。當?shù)入x子體發(fā)生器發(fā)射能量,如果反應(yīng)腔和電極的阻抗(以下簡稱負載)不等于傳輸線的特性阻抗,它將反映在傳輸過程中,通過加熱和部分能量散失和其他方面,而不是所有的能量都被負載的等離子體吸收的等離子清洗機。這將直接影響等離子體表面處理的效果。