等離子體清洗機(jī)和等離子體表面處理器的相變存儲(chǔ)器下電極接觸孔的蝕刻過程:在相變存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)單元中加熱器和貫穿;下電極接觸的大小對(duì)器件性能至關(guān)重要。更小的尺寸意味著更高的電流密度,極耳等離子體表面清洗更高的加熱效率,更小的相變材料面積在較低的電極接觸。以GST為相變材料的葉片形氮化硅電極接觸的結(jié)構(gòu)和過程,可以形成沿位置線方向尺寸小于20nm的低電極接觸。
另一方面,極耳等離子表面處理高能亞穩(wěn)態(tài)表面通過吸收空氣中的小分子降低表面能,等離子體處理效果的衰減是材料表面的動(dòng)態(tài)復(fù)合。經(jīng)冷等離子體處理后,NBR5080表面粗糙度增大,表面能提高,原有穩(wěn)定基團(tuán)變?yōu)榛钚曰鶊F(tuán),1)冷等離子體處理可以提高NBR5080的表面潤(rùn)濕性和表面能;2)NBR5080經(jīng)冷等離子體處理后表面粗糙度增加;3)冷等離子體處理后,NBR5080與PTFE的結(jié)合性能提高。。
大多數(shù)物理清洗過程需要高能量和低電壓。在轟擊前,極耳等離子體表面清洗物體表面的原子和離子受到轟擊。因?yàn)樗诩铀伲枰罅康哪芰浚云渲械脑雍碗x子運(yùn)動(dòng)得更快。空氣壓力必須保持在較低的水平,以增加原子碰撞前的平均距離,平均自由路徑越長(zhǎng),被清理物體表面的離子被轟擊的可能性就越大。這樣可以達(dá)到表面處理、清洗、腐蝕的效果(清洗過程有輕微的腐蝕過程);清洗后,將蒸發(fā)的污垢和清洗氣體排出,同時(shí)將空氣返回到室內(nèi)真空,使其恢復(fù)到常壓。
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極耳等離子體表面清洗:
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在線等離子清洗機(jī)設(shè)備在清洗工藝中的應(yīng)用:等離子設(shè)備與傳統(tǒng)加工工藝相比有哪些優(yōu)勢(shì)?等離子體效率環(huán)節(jié)是氣固共格化學(xué)反應(yīng),不消耗水和化學(xué)試劑,對(duì)自然環(huán)境是綠色的。氣體干燥的處理方法在整個(gè)過程中不需要還原劑和水,幾乎不會(huì)造成環(huán)境問題,節(jié)能環(huán)保,節(jié)省更多成本。在線等離子清洗機(jī)采用自動(dòng)清洗方式,適用于大型生產(chǎn)線,節(jié)省了人工,降低了人工成本,使清洗效率得到了很大的提高,其優(yōu)勢(shì)尤為明顯。
(C, H, O, N)+(O+OF+CO+COF+F+e)CO2+H2O +NO2 +與SiO2和Si組成的玻璃纖維的化學(xué)反應(yīng):HF+ SiO大氣等離子體處理裝置,在等離子體化學(xué)反應(yīng)中起化學(xué)作用主要粒子是正離子和自由基。
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