氬和氦性質穩定，等離子氣管接頭方法且放電電壓低(氬原子電離能E 15.57 eV)容易形成亞穩態原子，一方面，等離子體清洗機利用高能粒子物理功能清洗被氧化或還原的物體，Ar +轟擊污垢通過真空泵帶走形成揮發性污染物，避免了材料的表面反應;另一方面，氬容易形成亞穩態原子，與氧、氫分子碰撞時發生電荷轉換和重組，形成氧、氫活性原子作用于物體表面。
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由于等離子體清洗是在高真空條件下進行的，等離子氣管接頭方法等離子體中各種活性離子具有較長的自由路徑，穿透性和滲透性強，可以用細管和盲孔等復雜結構進行處理官能團:高分子材料經N2、NH3、O2、SO2氣體等離子體處理后，可以改變表面的化學成分，引入相應的新官能團:-NH2、-OH、-COOH、-SO3H等。
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等離子氣化技術屬于什么技術
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用環氧乙烷加壓蒸汽滅菌與過氧化氫等離子體滅菌等傳統滅菌方法相比滅菌溫度低，滅菌周期短，滅菌后滅菌劑無殘留，設備操作簡單，占地面積小，對工作場所條件等要求比較寬松，對于一些耐熱、耐濕的手術器械，尤其在內鏡手術器械的滅菌中起著不可替代的作用。因此，過氧化氫等離子低溫滅菌器受到各級醫療機構的歡迎。
由于等離子體具有高能量密度、高活性離子濃度，在常規的化學反應觸發中無法或難以實現物理變化和化學變化，等離子體CVD是通過能量激勵將工作物質刺激到等離子體的化學反應中引起固體的形成，等離子體增強化學氣象沉積具有沉積溫度低、能耗低、無污染等優點，因此得到了廣泛的應用。以等離子體為熱源，采用化學氣相沉積(CVD)方法合成了高純石英玻璃。
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低溫等離子處理器氧化目前國內常用的清洗孔壁和調整孔壁充注濃硫酸的方法有:由于濃硫酸具有較強的氧化性和吸水性，等離子氣化技術屬于什么技術大部分樹脂可以碳化形成可溶的烷基磺酸鹽，因此該方法的去除反應公式為:CmH2nOn+H2SO4——mC+nH2O的除垢效果與濃硫酸的濃度有關，處理時間和溶解溫度。在室溫下，濃硫酸在鉆井污水溶液中的濃度不應小于86%，20-40秒，如果發生腐蝕，應適當提高溶液溫度，以延長處理時間。
眾所周知、軍事和航空航天方面是非常高的技術和產品的要求,如安全性、可靠性、天氣航空連接器和特殊的通信電纜,在普通的表面處理方式,在粘合劑性能和表面能通常難以滿足要求,所以在實際的生產過程中，等離子氣化技術屬于什么技術將會介紹等離子清洗機的等離子表面處理技術。本文以航空連接器和特種通信電纜為例，論述了等離子體表面處理技術的應用。
