使用過程中產生的電弧較大,玻璃蓋板等離子體清洗儀且與空氣直接接觸,當用于處理可燃性氣體時,存在很大的火災隱患。目前的真空等離子清洗機均采用軟玻璃制成,具有以下優(yōu)點:1、所需的額定電壓大大降低,約2- 3kv,從而大大降低了系統(tǒng)絕緣要求,同時降低了高壓電火花引起可燃氣體的可能性;產生的電弧大部分是封閉在真空管中,大大降低了火災的可能性。但是軟玻璃的缺點是在工作環(huán)境溫度變化大的情況下容易開裂,破壞真空狀態(tài),不能繼續(xù)工作。
用于制造隱形眼鏡的玻璃模具含有聚合物污染層(如CR-39或PC)或脫模劑。濕法清洗通常用于去除這些殘留物,玻璃蓋板等離子體清洗儀但由此產生的不完整的噴霧、水痕和清洗槽的構造會影響表面的完美性,而等離子體可以很好地清洗這些鏡片,并提高產品性能以獲得最佳效果。。
等離子體處理是最有效的表面清潔、活化和涂層工藝之一,玻璃蓋板等離子體清洗可用于處理各種材料,包括塑料、金屬或玻璃。等離子處理器可以清洗脫模劑和添加劑的表面,其活化工藝可以保證后續(xù)粘接工藝和涂覆工藝的質量,至于涂覆處理,可以進一步改善復合材料的表面特性。利用等離子體技術,可以根據具體工藝要求高效地進行材料的表面處理。
廣泛應用的原材料有聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚酯、聚甲醛、聚四氟乙烯、乙烯基、尼龍、(硅)橡膠、有機玻璃、ABS等塑料印刷、涂層和粘接工藝的表面預處理。
玻璃蓋板等離子體清洗儀
低溫等離子體處理器與氧化鋯的結合能力可提高20倍:氧化鋯陶瓷因其優(yōu)異的力學性能和美學性能已逐漸應用于口腔醫(yī)學。但氧化鋯與各種基體之間的結合強度不足一直是臨床應用中存在的問題。由于氧化硅和玻璃相關成分的缺乏,氧化鋯陶瓷不能被氫氟酸腐蝕形成粗糙的表面,也不能與硅烷偶聯(lián)劑進行化學結合,所以傳統(tǒng)的水泥和結合方法不能為氧化鋯提供足夠的結合強度。
(C, H, O, N)+(O+OF+CO+COF+F+e)CO2+H2O +NO2 +與SiO2和Si組成的玻璃纖維的化學反應:HF+ SiO大氣等離子體處理裝置,在等離子體化學反應中起化學作用主要粒子是正離子和自由基。
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等離子清洗機加工后產品的時效性:凡事都有兩重性,在熟悉等離子清洗機加工工藝優(yōu)點的同時,也要熟悉其缺陷,并且等離子清洗機在使用中存在的各種問題確實有一部分阻礙了使用因素,具體表現(xiàn)在以下幾個方面:不要用這些方法去除表面的鉆屑,這在清洗金屬表面的油漬時尤為重要。實踐經驗證明,不能用于去除太厚的油漬。等離子清洗機雖然對附著在物品表面的少量油漬有很好的實用效果,但去除較厚油漬的實用效果一般都不好。
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