通過對(duì)比各種低溫等離子器件清洗方法的拉曼光譜,氧等離子體清洗儀證明用氧等離子體清洗Kanashima膜可以有效去除金表面的雜質(zhì)和Kanashima膜的表面增強(qiáng)拉曼活性。 .清潔前后沒有明顯變化。拉曼光譜可以提供與分子內(nèi)各種正常振動(dòng)頻率相關(guān)的振動(dòng)能級(jí)信息,是研究物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)的有效手段。最大的優(yōu)點(diǎn)是對(duì)樣品制備沒有特殊要求,樣品可以在溶液中測量。表面增強(qiáng)拉曼光譜 (SERS) 是一種結(jié)合拉曼光譜和表面增強(qiáng)現(xiàn)象的分析技術(shù)。

氧等離子體清洗

氧氣低溫等離子設(shè)備等離子清洗的原理是通過基體表面的有機(jī)污染物與氧自由基反應(yīng)生成二氧化碳、一氧化碳、水等揮發(fā)性化合物,連云港氧等離子體清洗機(jī)并吸收這些揮發(fā)性物質(zhì)。真空泵。通過真空沉積在硅片表面沉積一層金島膜。島狀膜具有較高的表面增強(qiáng)效果,砷分子增強(qiáng)系數(shù)為10。 Kanashima薄膜的表面污染通過氧等離子體清洗去除,光譜測試表明Kanashima薄膜的表面增強(qiáng)性能在清洗前后沒有明顯變化。

通過真空沉積在硅片表面沉積一層金島膜。島狀膜具有較高的表面增強(qiáng)效果,連云港氧等離子體清洗機(jī)砷分子增強(qiáng)系數(shù)為10。 Kanashima薄膜的表面污染通過氧等離子體清洗去除,光譜測試表明Kanashima薄膜的表面增強(qiáng)性能在清洗前后沒有明顯變化。氧等離子清洗機(jī)可以去除真空沉積形成的金島膜表面的大部分非晶碳雜質(zhì)。清潔的基板可以更好地保留針對(duì)其他分子的 SERS 活性。清潔后,SERS 信號(hào)衰減較少。

n12 + 188.25 n13) kJ/mol (4-5) 在式(4-5)中,氧等離子體清洗儀n11、n2和n3分別表示以下。 n11為C2烴產(chǎn)物中C2H6的摩爾分?jǐn)?shù),mol/%,n12為C2烴產(chǎn)物中C2H4的摩爾分?jǐn)?shù),mol/%;n13為C2烴產(chǎn)物中C2H2的摩爾分?jǐn)?shù),比率為摩爾/%。

氧等離子體清洗儀

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連云港氧等離子體清洗機(jī)

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