同時，CCPplasma清洗C2H6 本身與高能電子之間的非彈性碰撞很可能導致其 CC 鍵斷裂，從而形成中間基網格，作為 CH4 形成的基礎。因此，與等離子等離子體下的純 C2H6 脫氫相比，C2H6 的轉化率和 C2H2、C2H4 和 CH4 的產率隨著 H2 濃度的增加而顯著增加。將 H2 施加到 C2H6 的力的優點之一是它抑制了碳沉積物的形成。

CF4：藍色 SF6：淺藍色 SiF4：淺藍色 SiCl4：淺藍色 Cl2：淺綠色 CCl4：淺綠色 H2：粉紅色 O2：淺黃色 N2：紅色至黃色 Br2：紅色 He：紅色至紫色 Ne：紅磚 Ar：深色red 即維護 與施加的真空度、施加的功率、激發頻率、電極結構、氣體種類等環境有關。 ..等離子清洗機中各種氣體的清洗效果等離子清洗機中各種氣體的清洗效果是由于等離子清洗工藝的材料和要求的不同。

表 3.9 不同刻蝕機側面形貌和寬度的差異 WaferCDBottom-CDMiddle / nmICP EtcherCCP Etcher10.9220.52.530.31.7412.4512.260.60.3Average0.71.6 除了均勻性，CCPplasma清洗機器top 在等離子清洗設備的側壁刻蝕工藝中。損耗也是側壁蝕刻的一個重要參數。低頂部高度損失會影響多晶硅柵極的金屬化厚度并增加金屬柵極的電阻。

一般來說，CCPplasma清洗鍺蝕刻具有高縱橫比和多層結構。在蝕刻過程中需要許多方法來保持良好的圖案轉移。基于氯（400W，200sccm，ER ~ 200?/s）的蝕刻不會損壞邊界界面（側邊界網格保持完整）。這對于高性能設備非常重要，并且可以避免損壞電網的后續修復。雖然蝕刻本身難度較大，但事實證明，側壁圖案的控制不足，無法獲得約 75° 的圖案角度，難以滿足實際需要。

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等離子表面處理器的電源整流器不需要VCC來提供電路轉換所需的瞬態電流，電容相當于一個小電源。因此，電源和接地端的寄生電感被繞過。沒有感應電壓，因為寄生電感在一段時間內不流動。通常將兩個或多個電容器并聯，以降低電容器本身的串聯電感，降低電容器充/放電電路的阻抗。注：電容器放置、設備間距、設備方式、電容器選擇等離子表面處理設備的作用1、工作原理概述：在表面獲得等離子處理活性基團，產生高能混沌等離子體。

環保，具有綠色環保的特點。成本低：設備簡單，操作維護方便，可連續運行。因此，采用等離子體高分子材料改性技術可以克服常規方法使用的不足，使高分子材料的表面處理更符合環保原則。等離子體中富含離子、電子和紫外光子等活性粒子。在等離子體表面處理過程中，這些反應性粒子與 PET 表面的分子碰撞，破壞表面化學鍵（CC、CH 和 CO）形成自由基。

等離子體的能量足以去除各種污染物，而氧離子可以將有機污染物氧化成二氧化碳和蒸汽，可以從機艙內排出。等離子清洗不需要任何其他原料，使用方便，無污染，只要空氣符合要求。同時，等離子不僅可以清洗表面，而且比超聲波清洗有很多優點。 , 但更重要的是，它可以提高表面活性。等離子體與物體表面之間的化學反應產生活性化學基團。這些化學基團具有高活性，具有廣泛的應用，例如提高材料的表面附著力、提高焊接能力、粘合性和親水性。

5.大氣等離子清洗技術基礎理論研究大氣等離子清洗技術基礎理論研究包括表面技術研究、大氣等離子清洗基礎理論研究、涂層結合機理和涂層結構研究、噴涂粉末顆粒溫度和速度測試等。 , 涂料性能科學研究等綜上所述，大氣壓等離子清洗技術的發展可從五個方面進行闡述。你可以和你的朋友聊天。如有問題需要討論，請積極咨詢小編。。五個方面涵蓋了等離子發生器在車輛組件上的應用。五個方面涵蓋了等離子發生器在車輛總成中的應用： 1。

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多種塑料制品包括涂裝前回春清洗、粘著前回春清洗、標簽前打碼前貼清洗活化等。等離子清洗作為傳統清洗方式的替代，CCPplasma清洗顯著提高了生產效率，提高了產品的清洗效果。穩定性和均勻性。預涂膠鞋：作為一般消費者，在購買鞋子的時候，經常會遇到穿上一段時間后開膠的現象。那么脫膠現象呢？我該如何處理我的鞋子脫膠？很多朋友會認為鞋子是假的實際上，品牌產品有多種原因，但作為制造商，這實際上是一種痛苦。