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在超聲波的作用下，深圳松崗電暈機利用液體（水或溶劑）的振動來清洗物體，從而達到清洗的目的！以上知識來自深圳。。等離子體表面處理器中性離子束刻蝕技術；當大規模集成電路特征尺寸降低到7nm以下時，傳統等離子體表面處理器等離子體刻蝕固有的缺陷將限制其進一步發展和應用，如電荷積累和深紫外光子(VUV)輻射等。電子掩蔽效應引起的電荷積累會導致蝕刻圖形底部過多的正電荷積累，造成電荷誘導損傷和正離子軌道畸變表面導致的蝕刻精度降低。

通過改變放電氣體種類和放電功率，深圳松崗電暈機拉曼光譜測試表明，氣體還原性越強、放電功率越大，氧化石墨烯的恢復程度越高。等離子體設備修復處理后得到的三維多孔結構石墨烯材料可進一步應用于電容器、儲能等領域。。射頻低溫等離子體發生器經石墨烯處理后用于電容催化儲能等領域；石墨是一種由碳原子組成的二維平面材料。由于其物理化學性質，引起了國內外科學家的特別關注。

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PST法是指對材料表面或極薄表面層進行活化蝕刻處理，通常稱為還原處理。由于等離子體表面處理器中電子等活性因子的能量（高達20eV)遠高于有機化合物的化學鍵能(<10eV)，因此具有化學活性。有機化合物處理時，易使被處理物表面的纖維斷裂，從而提高纖維或織物的吸濕性、拒水性、耐沾污性和染色性能。在PGP工藝中，首先利用等離子體對表面進行活化，引入活性基團，然后在原有表面接枝許多活性支形成新的表層。

第六個方程表示氧分子在受激自由電子作用下分解成氧原子自由基和氧原子陽離子。當這些反應連續發生時，就形成了氧等離子體，其他氣體等離子體的形成過程也可以用類似的方程來描述。當然，實際反應比這些反應所描述的要復雜得多。。等離子體設備通過高能粒子化學和物理作用對紡織產品/化學纖維表面進行改性，對傳統的以水為介質的化學濕法生產方法提出了挑戰。具有快速、環保、干燥等優點。

等離子體等離子體與催化劑相互作用機理的初步研究；在等離子體等離子體和各種催化劑作用下CO2氧化CH4制C2烴的結果表明：等離子體等離子體與催化劑共作用的機理不同于純等離子體或普通催化活化，純等離子體等離子體作用下CO2氧化CH4轉化為自由基過程，目標產物選擇性低；催化劑在80℃以下無催化活性。

產生等離子體的等離子體清洗/蝕刻裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定程度的真空，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離和分子或離子的自由運動距離越來越長。在磁場作用下，碰撞形成等離子體，同時會產生輝光。等離子體在電磁場空間中運動，轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和蝕刻的效果。等離子清洗機具有以下九大優點：一是清洗對象經等離子清洗后干燥，無需進一步干燥處理即可送入下一道工序。

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