上世紀80年代中后期，9003附著力促進劑指標凡林半導體公司成功研制出彩虹等離子體刻蝕設備（介質材料刻蝕），使凡林半導體公司成為該領域的專業人士之一。上世紀90年代初，他加入應用材料公司，負責等離子清洗機等離子刻蝕部的研發工作。他開發或參與開發的產品約占等離子體刻蝕領域的50%。在兩大蝕刻設備廠商的獨特經歷，讓他更新對應不同技術節點的蝕刻機。
在90nm時，9003附著力促進劑接觸孔蝕刻順序為先去除光阻劑再蝕刻接觸孔停止層，而在65nm/55nm時，接觸孔蝕刻順序為先去除光阻劑再蝕刻接觸孔停止層。由于90nm和65nm/55nm器件的臨界尺寸要求，幾乎不需要蝕刻來縮小接觸孔的尺寸。
大氣壓低溫等離子體中甲烷轉化反應：甲烷(CH4)是天然氣的主要成分，9003附著力促進劑指標占天然氣總量90%以上。天然氣儲量十分豐富，2015年世界已探明天然氣儲量為1.97x1021m3，在我國天然氣可采儲量為4.94x1018m3。
擁有專業的研發團隊，9003附著力促進劑和國內多家較高高校和科研院所開展合作，配備了完善的研發實驗室。公司現已擁有多項自主知識產權和國際發明證書。已通過ISO9001質量管理體系、CE認證、高新技術企業認證等。。
9003附著力促進劑指標
在電流密度為0.06 A/CM2的情況下，隨著放電間隙的逐漸增大，鞘層開始逐漸增大，無論是實驗還是計算，當極板間隙增加到500 μM時，鞘層厚度基本會保留215 μM。它在 M 內保持不變。等離子體區域的厚度從 μM 單調增加到 900 μM。當放電間隙小于500μm時，如高頻等離子清洗機，放電等離子體從傳統的輝光放電結構轉變為鞘層為主的結構，鞘層成為放電空間的主體。
目前，非平衡等離子體技術研究廣泛應用于高分子材料重整、生物醫學、飛機動力推進等國民經濟重要領域。王欣欣表示，該領域涵蓋高壓技術、電力電子技術、材料科學等諸多技術領域，應用前景廣闊，發展前景廣闊。據了解，自1990年代以來，國外對放電等離子體技術和應用的研究發展迅速，對放電等離子體機理和特性的研究越來越多地與應用產業聯系起來。
由于整個等離子清洗過程中不使用化學藥品，沒有二次污染，清洗設備重復性高，設備運行成本相對較低，控制靈巧簡單，整個金屬表面。完成清潔。或者清洗一些零件或復雜的結構。它可以在等離子清洗后不斷提高一些外觀性能指標，對金屬材料的后期制造和加工很有幫助。除了許多混合氣體分子結構、電子器件和離子外，還有許多被激發的中性原子、自由基氧自由基和等離子清洗機中的等離子體發射的光束。
據保守估計，全球等離子體表面處理設備和等離子體產品的市場份額每年可達數千億美元；通過等離子體加工制造材料后，改善了材料的表面特性，延長了材料的使用壽命，用這種新材料制成的相關新產品的使用壽命也相應延長。由此產生的經濟效益是等離子體技術對世界的又一貢獻指標。等離子體表面處理技術影響著工業過程的非物質化。所謂去物質化，是指減少生產過程中使用的材料和能源，簡化生產加工過程。
9003附著力促進劑指標
能力指標Cpk值同時，9003附著力促進劑指標能有效提高抗拉強度。據了解，在研究等離子清洗效率時，不同公司的不同產品類型在涂膠前使用等離子清洗。有優點。。等離子清洗技術在航空航天制造領域的四大優勢等離子清洗技術始于 20 世紀初，促進了半導體和光電產業的快速發展。目前在微機械、汽車制造、航空航天和污染控制等許多高科技領域。等離子清洗技術的關鍵是低溫等離子的使用，主要取決于高溫、高波、高能等外部條件。
