還有的情況是，電暈處理站陶瓷放電電極當(dāng)自由基與物體表面的分子結(jié)合時(shí)，大量的結(jié)合能被釋放回來(lái)，這些結(jié)合能又成為引發(fā)新的表面反應(yīng)的動(dòng)力，從而引發(fā)物體表面物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)而被清除。C.電子與物體表面的相互作用對(duì)物體表面的撞擊一方面可以促進(jìn)吸附在物體表面的氣體分子分解或吸附；另一方面，大量的電子撞擊有利于引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。由于電子質(zhì)量極小，比離子的運(yùn)動(dòng)快多了。

等離子體清洗是利用離子、電子、受激原子、自由基及其與清洗表面污染物分子的活化反應(yīng)去除污染物的過(guò)程。電子在清洗金屬表面中的作用；等離子體中的電子與原子或分子碰撞形成受激中性原子或原子團(tuán)（也稱(chēng)自由基），電暈處理站陶瓷放電電極可與污染物分子發(fā)生反應(yīng)，使污染物離開(kāi)金屬表面。

等離子清洗機(jī)/等離子處理器/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子脫膠、等離子涂層、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理。

LCD液晶玻璃等離子體清洗中的活化氣體它是一種氧等離子體，電暈處理后的薄膜表面可以去除油性污垢和有機(jī)污染物顆粒，因?yàn)檠醯入x子體可以氧化有機(jī)物，形成氣體。對(duì)電極端子和顯示器進(jìn)行清洗后，增強(qiáng)了偏光板的成品率，大大提高了電極端子與導(dǎo)電膜的附著力，從而提高了產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性。隨著LCD技術(shù)的飛速發(fā)展，LCD制造技術(shù)的極限不斷受到挑戰(zhàn)和發(fā)展，成為代表先進(jìn)制造技術(shù)的前沿技術(shù)。

電暈處理站陶瓷放電電極

在下電極RF的作用下，在襯底表面發(fā)生躍遷，襯底圖形區(qū)半導(dǎo)體器件的離子鍵斷裂，與刻蝕蒸氣產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，使蒸氣與襯底分離，拉走真空管。在相同條件下，氧等離子體的清洗效果優(yōu)于氮等離子體。如果需要蝕刻，蝕刻后需要清除污垢、浮渣、表面處理、等離子聚合、等離子灰化或任何其他蝕刻應(yīng)用，我們可以根據(jù)客戶(hù)要求生產(chǎn)安全可靠的等離子清洗機(jī)技術(shù)。

在其他方面，等離子體發(fā)生器的選擇、功率的設(shè)置、真空室的尺寸以及電極結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)也有助于改善散熱問(wèn)題。。

等離子體是指部分或完全電離的氣體，自由電子和離子攜帶的正負(fù)電荷之和完全抵消，宏觀上表現(xiàn)為中性電性。等離子體又稱(chēng)等離子體，是由原子電離產(chǎn)生的部分電子和正電子被剝奪的原子組成的電離氣態(tài)物質(zhì)。它廣泛存在于宇宙中，常被認(rèn)為是除固體、液體和氣體之外的第四種物質(zhì)狀態(tài)。等離子體可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種。低溫等離子體表面處理（點(diǎn)擊查看詳情）電離率更低，電子溫度遠(yuǎn)高于離子溫度，離子溫度甚至可以相當(dāng)于室溫。

通常情況下，物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態(tài)，比如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運(yùn)動(dòng)的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。在真空室內(nèi)通過(guò)射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無(wú)序等離子體，利用等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達(dá)到清洗的目的。

電暈處理后的薄膜表面

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，電暈處理后的薄膜表面主動(dòng)式清洗臺(tái)將多個(gè)晶圓一起清洗，優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備成熟，生產(chǎn)率高，而單片晶圓清洗設(shè)備逐片清洗，優(yōu)點(diǎn)是清洗精度高，背面、斜面、邊緣都可以進(jìn)行有益清洗，一起防止晶圓之間的穿插污染。45nm之前，主動(dòng)清潔臺(tái)可以滿足清潔要求，現(xiàn)在仍在使用；而45以下的工藝節(jié)點(diǎn)則依賴(lài)于單片晶圓清洗設(shè)備來(lái)滿足清洗精度要求。在工藝節(jié)點(diǎn)數(shù)量不斷減少的情況下，單片清洗設(shè)備是未來(lái)可預(yù)見(jiàn)技術(shù)下清洗設(shè)備的主流。

在真空室內(nèi)，電暈處理站陶瓷放電電極通過(guò)射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無(wú)序等離子體，等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達(dá)到清洗目的。