等離子體清洗設備的表面改性是低溫等離子體與塑料橡膠制品表面層相互作用的環節，三氧化二鋁表面活化如材料表面處理（塑料表面處理、金屬制品、鋁表面處理、印刷包裝、涂層、粘接低溫等離子體表面處理），等離子體清洗機主要用于對材料表面進行清洗，以增強表面的附著力和附著力。等離子清洗機通常用于：1。

反應物常用于使等離子體與基體反應形成揮發性附著體。處理后的材料表面的附屬物由于解吸而被真空泵抽走，鋁表面活化處理無需進一步清洗或中和即可實現表面的蝕刻。。真空等離子體設備技術實現在線加工的五大預處理優勢；真空等離子設備用于清洗和解鎖原料。等離子體表面處理技術可以方便、環保地清洗鋁表面。復合膜具有良好的阻隔性能，通常用于飲料或食品包裝設計中。

離子從各個方向同時注入樣品，三氧化二鋁表面活化沒有視線限制，可以加工形狀復雜的樣品。采用低溫等離子體技術在金屬表面包覆聚對苯二甲酸二甲酯，鋁表面包覆鋁合金多用于保護航天器金屬表面。提高金屬的硬度和磨損特性。等離子體浸沒離子注入在早期的應用主要是用氮等離子體處理金屬材料表面。由于TiN和CrN超硬層的形成，試樣表面的耐磨性明顯提高。。

在沉淀過程開始之前，鋁表面活化處理殘余的光刻膠必須清除干凈，使用熱硫酸和過氧化氫溶液或其它有毒有機溶劑對膠體進行脫膠，這樣會導致環保問題，但采用等離子清洗機清洗時，可采用三氧化硫等氣體脫膠，從而減少了對化學溶劑和有機溶劑的依賴。對一般生產廠家而言，采用等離子去膠技術，可使化學溶液用量減少上千倍不止，不僅環保，而且為企業節省了大量資金。。

三氧化二鋁表面活化

半導體行業中使用的另一種制造工藝是使用等離子體清潔器來清潔通過從硅膠片上的組件表面去除光敏有機數據而制成的光刻膠。在堆疊工藝開始之前，需要去除和清洗殘留的光刻膠。傳統的去膠方法是收集熱硫酸和過氧化氫溶液，或其他有毒有機溶液探員。而使用等離子清洗機清洗可以用三氧化硫等氣體去除膠水，減少了對化學溶劑和有機溶劑的依賴。

無論是芯片源離子注入、晶體電鍍，還是低溫等離子表面處理設備，都可以通過去除氧化膜、有機物、掩膜等對一側進行超清洗。 , 提高濕度。在半導體工業的制造過程中，硅片上的元件表面由感光有機材料制成的光刻膠采用等離子清洗機進行清洗。在開始沉淀過程之前，應使用熱硫酸和過氧化氫溶液或其他有毒有機溶劑對剩余的照片進行清洗和脫膠。這會造成環境污染，但用等離子清洗機清洗時，可以使用三氧化硫等。

等離子體能使表面的利益大化，從而能將塑料粘合在一起包裝印刷。。PTFE粉末等離子親水性處理PTFE（聚四氟乙烯）粉末廣泛用于各種溶劑性涂料和粉末涂料：塑膠涂料，木器油漆，卷材涂料，光固化涂料，油漆等產品中的添加劑，提高其脫模性能、抗表面擦傷性、潤滑性、耐化學腐蝕性、耐候性和防水性。 聚四氟乙烯微粉可以單獨作固體潤滑劑使用替代液體潤滑劑。

，而且它的物理化學反應非常好。電源分為國產電源和進口電源。國產和進口電源的價格差別很大，這也是影響價格的一個重要因素。 3 真空泵選擇合適的真空泵對于真空等離子清洗機的質量非常重要，因為真空泵的真空度、真空時間以及整套設備對真空等離子清洗機的處理效果都有很大的影響。 ..真空等離子清洗機常用的真空泵有兩種：油式真空泵和干式真空泵。

三氧化二鋁表面活化

具有足夠電離性的電離氣體需要具有等離子體特性(電離度>10-4)。。滿足潔凈室等苛刻條件使用方便靈活，三氧化二鋁表面活化工藝簡單，對各種形狀的零件都有明顯的加工效果，工藝條件完全可控，成本低，效果好，時間短。。血漿治療是否有利于提高細胞生長速度?用于制造培養基的高分子材料固有的疏水性不利于組織細胞的粘附。因此，需要一個親水表面。氧化等離子體處理是用來增加表面氧官能團，從而增加它們的極性，使它們更親水。

由于利用現有檢測器研究等離子體催化活化反應的機理還很困難，三氧化二鋁表面活化因此對該反應的研究仍處于實驗估計和研究的早期階段。比較三種活化方法，PLASMA等離子催化活化CO2從CH4氧化成C2烴應該具有潛在的應用價值，值得進一步研究。