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氣體輝光放電時,從陰極發出的電子經過電場.加速，獲得能量撞擊氣體分子,使氣體分子激發,在等離子區產生了大量的正離子(等離子區任何位置的電子濃度和正離子濃度相等,所以稱等離子區),這些正離子在電場作用下加速向陰極移動,轟擊靶材和薄膜表面。Ar的作用是維持正常的輝光放電,同時氬離子(正離子)也不斷轟擊薄膜表面,產生級聯碰撞,將油污、灰塵等污物分子濺射出去,清潔薄膜表面。
1. CO2分子與高能電子的非彈性碰撞； 2.系統中的 CHx 和 H 等活性物質會激活 CO2； 3.催化劑吸附 CO2 分子，與 C-0 結合，促進 CO 鍵的斷裂和 CO。并產生活性O原子。顯然，在等離子體催化的聯合作用下，路徑 3 對于 CH4 和 CO2 的轉化無疑是重要的。等離子體中催化劑的活化主要取決于與高能電子的碰撞。
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..去除的污染物可以是有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、顆粒污染物等。針對不同的污染物，廣東等離子表面處理機價格需要使用不同的清潔工藝。根據所選擇的工藝氣體，等離子清洗可分為化學清洗、物理清洗和物理清洗。化學清洗。 1化學清洗：表面作用主要是化學反應等離子清洗，又稱PE。氧等離子體將非揮發性有機化合物化學轉化為揮發性 H2O 和 CO2。氫等離子體可以通過化學反應去除金屬表面的氧化層來清潔金屬表面。
