等離子體表面處理機主要利用活性等離子體對材料表面進行轟擊，劃格法怎么檢測漆膜附著力如物理轟擊、化學反應等單一或雙重作用通過這種方式,它可以刪除或修改的分子水平上表層材料表面的污染物,并能有效去除有機殘留物,顆粒污染和材料表面的氧化物薄層在包裝過程中,提高工件的表層的活動,避免粘接或虛擬焊接等情況。等離子表面處理機不僅可以大大提高粘接性能和粘接強度，而且避免了人為因素與引線框長時間接觸造成的二次污染。。
以下物質以等離子體狀態存在：快速運動的電子、活化的中性原子、分子、原子團（自由基）、電離的原子和分子、未反應的分子、原子等，檢測漆膜附著力該物質整體保持電中性。等離子處理器技術是對等離子特殊特性的一種具體應用。等離子體處理系統通過在封閉容器中設置兩個電極以產生電場并使用真空泵來實現一定程度的真空來產生等離子體。氣體越來越稀薄，分子和離子的分子間距和自由運動距離越來越長，在電場的作用下相互碰撞形成等離子體。
熱等離子體裝置[4]利用帶電物體的尖端（如刀形或針形尖端和狹縫電極）產生稱為電暈放電的非均勻電場，檢測漆膜附著力產生電壓、頻率、和電極間距。利用時間來控制加工溫度和電場。光暈處理效果受到影響。電壓越高，電源頻率越高，加工強度越高，加工效果越好。但是，如果電源頻率過高或電極間隙過寬，則電極之間的離子碰撞次數過多，會產生不必要的能量損失。如果電極間距太小，則會出現感應損耗和能量損耗。 加工溫度越高，表面性能變化越快。
主機包括反應腔、位于反應腔一側的調諧網絡、電路系統、控制單元和控制主板。反應室和調諧網絡在主機頂部，檢測漆膜附著力電路系統在主機底部，控制單元和控制主板在主機底部。以及電路系統的背面。設計緊湊、占地面積小、功能齊全、成本低的便攜式等離子清洗系統。同時降低（降低）等離子清洗系統的使用門檻，為更多工業和科研單位的技術研發創造了便利條件。
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3、后蝕刻處理一般等離子清洗機等離子干法蝕刻完成后，會引入酸性或堿性濕法清洗步驟，徹底去除等離子蝕刻在晶圓上形成的副產物，避免二次反應。 由于GST是一種金屬合金，酸堿會造成嚴重的腐蝕，所以GST等離子蝕刻只能使用低濃度的酸（或堿）濕法清潔劑來去除GST蝕刻產生的含金屬元素增加。副產品的影響很小。因此，介紹了等離子清洗機的后蝕刻處理（POST ETCH TREATMENT）技術。
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