例如，LTH BOPP附著力氫原子的光譜是一個簡單的原子光譜。有一個獨立的光譜系統。可見光區只有一條線，巴爾默線。四個較亮的線具有以下光譜線。 H & ALPHA；-656.28 NM，H & BETA；-486.13 NM，H & GAMMA；-434.05 NM，H & DELTA；-410.18 NM。對于一些簡單的分子，其能級結構對應的發射光譜也可以是線性光譜，如AR光譜。請參見圖 2-2。

原子光譜一般為線狀光譜，LTH BOPP附著力如氫原子的光譜是簡單的原子光譜，它有相互獨立的光譜系，其中只有一個線系在可見光區，即巴耳末線系，比較明亮的四條譜線是：Hα-656.28 nm，Hβ-486.13 nm，Hγ-434.05 nm， Hδ-410.18 nm。對于一些簡單分子，與能級結構相對應的發射光譜也有可能是線狀光譜，如 Ar的光譜，見圖2-2。

通常認為，LTH BOPP附著力當有機半導體層/電極界面的電勢壘高度△E<0.4eV時，電極與有機半導體層之間可以形成歐姆接觸，對于P型OFET來說，其高已占軌道能級為-4.9eV至-5.5eV，且需選用功函數較高的，常用的有Au(-4.8eV-5.1eV)和ITO(-5.1eV)。普通ITO由于其功函數較低，要求采用進步功函數，因此能利用好準13.56MHz頻率VP-R3低溫等離子發生器對其進行改進。。

去除有機污染物、油或油脂。對于FPD，LTH BOPP附著力LCD、LTPS、OLED等各種基板的玻璃表面清洗設備，預連接工序不需要抽真空。采用均勻的大氣壓等離子處理器來阻擋表面清洗機的處理過程，而不會引起大氣壓等離子的問題STREMER和ARC，并損壞基板。此外，多元電極比原來的大氣壓等離子體處理設備更容易擴展，因此可以從小基板使用到第10代擴展3000 MM的大基板。

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從1981年開始，專門提供導師、cadence等EDA工具的廠商相繼成立，1983年，Altera等fabless（沒有芯片生產能力的芯片設計公司）團體誕生。二是鑄造業的興起。臺灣聯電成立于1984年，臺積電成立于1987年。在等離子清洗后的很長一段時間里，代工模式并沒有得到世界其他制造商的認可，尤其是美國和日本的制造商。

LCP（Liquid Crystal Polymer）材料由于其高可靠性設計和高速信號傳輸設計，可被視為無粘合劑且更靈活的材料。由于PI的吸濕性高，建議在使用前烘烤以去除水分。但是，使用 LCP 作為基板材料的 multiflex PCB 不需要烘烤。就柔性剛性 PCB 而言，多柔性電路可以提供同時使用層的靈活性。電路的復雜互連設計成一體，這使得它們可以再制造，這比電纜和電線連接具有優勢。

因此，特別適用于不耐熱、不耐溶劑的基材材料。而且，材料的整體、局部或復雜結構可選擇性地部分清潔。在清潔去污的同時，還可以改變材料本身的表面性質，比如提高表面的潤濕性，提高薄膜的附著力，這在很多應用中都非常重要。。等離子體清潔功能等離子體接枝共聚，由等離子體（點擊查看詳情）引發接枝共聚，可以將不同官能團（如-NH2、-COOH)接枝共聚到基底表面。

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