表3-3等離子體作用下不同催化劑的催化活性201催化劑轉(zhuǎn)化率/%選擇性/%收率/%比率/molC2H6CO2C2H4C2H2C2H4和C2H2C2H4/C2H2H2/CO無(wú)催化劑33.822.712.425.412.70.482.3410La2O3/Y-Al2Oy37.518.520.832.019.80.652.7410CeO2/Y-Al2O342.420.620.431.321.80.652.640.1Pd/Y-Al2O330.024.646.76.315.97.401.46注:反應(yīng)條件為催化劑用量0.7ml，pe附著力促進(jìn)劑S180放電功率20W (峰值電壓28kV:頻率44Hz)，流速25 ml/min，進(jìn)料為C2H6(50vol.%) 和CO2 (50vol.%)。

自由電子的總負(fù)電荷等于正離子的總負(fù)電荷，pe附著力促進(jìn)劑的合成這種高度電離的氣體稱(chēng)為等離子體。通過(guò)小編的介紹，大家可以對(duì)等離子表面處理設(shè)備等離子產(chǎn)生的射流材料有了更深入的了解。。隨著等離子清洗技術(shù)的發(fā)展，認(rèn)識(shí)和使用等離子清洗機(jī)的企業(yè)越來(lái)越多，我們經(jīng)常看到的玩具就是其中之一。下面我們來(lái)看看等離子表面處理機(jī)在玩具中的作用。我們常用的等離子表面處理機(jī)，功率一般為0w。這個(gè)是根據(jù)產(chǎn)品的需求來(lái)確定的，電源是220v/380v。

德國(guó)Diener是專(zhuān)門(mén)生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗機(jī)和等離子刻蝕設(shè)備的公司,是世界上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場(chǎng)和技術(shù)領(lǐng)先者。Diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開(kāi)發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40KHz、80KHz、13.56MHz，pe附著力促進(jìn)劑S180以及代表等離子應(yīng)用最先進(jìn)技術(shù)的2.45GHz的等離子表面處理設(shè)備。 目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于：等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。

生成臭氧的基本原理在電離層放電過(guò)程是含氧氣體在低溫等離子體氣氛形成放電反應(yīng)器,氧氣分子分裂成氧原子由自由電子與某些能量,和臭氧分子之間的碰撞反應(yīng)也發(fā)生。因?yàn)槌粞跏怯裳醴肿雍鸵粋€(gè)氧原子組成的，pe附著力促進(jìn)劑S180它只是處于暫時(shí)的狀態(tài)。剩余的氧原子除了被氧化消耗外，還被結(jié)合成穩(wěn)定的狀態(tài)，因此沒(méi)有臭氧的二次污染。

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科學(xué)家預(yù)測(cè):低溫等離子體科學(xué)技術(shù)將在21世紀(jì)產(chǎn)生突破，低溫等離子體清洗機(jī)、等離子體處理器、等離子體表面處理設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)、高分子膜、生命科學(xué)、等離子體合成、等離子體三廢處理等領(lǐng)域相對(duì)于傳統(tǒng)工藝將有革命性的變化。

用于故障分析或制造 MEM 和 LED 器件的高性能等離子蝕刻和真空等離子清洗系統(tǒng)可用于各種工藝氣體，例如 AR、O2、H2 / 合成氣體、HE、CF4、SF6。真空等離子清洗系統(tǒng)的清洗加工特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)： (1) 觸摸屏控制和圖形提供實(shí)時(shí)過(guò)程數(shù)據(jù)和反饋的用戶(hù)界面。 (2) 13.56MHZRF發(fā)生器和自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)的使用提供了生產(chǎn)的過(guò)程再現(xiàn)性。 (3)等離子室內(nèi)置的溫度控制回路可以控制。。

目前國(guó)內(nèi)外等離子清洗機(jī)品牌很多，但是選擇哪個(gè)品牌的等離子清洗機(jī)要根據(jù)設(shè)備的穩(wěn)定性、性?xún)r(jià)比、售后服務(wù)、整個(gè)公司的研發(fā)能力等進(jìn)行比較。 . ..等離子清洗機(jī)的功能： 1.等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。利用這些活性成分的特性對(duì)樣品表面進(jìn)行處理，可以實(shí)現(xiàn)清洗、改性、光刻膠灰化等。

采用低溫等離子技術(shù)處理環(huán)境工程污水，在高能電子發(fā)射、臭氧分解和紫外分解的共同作用下，可以取得較好的處理效果。 高能電子作用：冷等離子體技術(shù)在污水處理過(guò)程中產(chǎn)生大量高能電子。與廢水中的原子和分子碰撞，將能量轉(zhuǎn)化為基質(zhì)分子的內(nèi)能，通過(guò)激發(fā)、分解、電離等多個(gè)過(guò)程被激活。廢水。通過(guò)破壞廢水中的分子鍵并與游離氧和臭氧等反應(yīng)物反應(yīng)形成新化合物。最后，Z 最終將有毒物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無(wú)毒物質(zhì)，分解原污水中的污染物。

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因此，pe附著力促進(jìn)劑S180我們一般配備大腔真空等離子體表面處理器真空泵，以提高抽真空速度。將兩臺(tái)或多臺(tái)真空泵組合成串聯(lián)結(jié)構(gòu)，可大大提高抽真空速度。一般來(lái)說(shuō)，真空等離子體表面處理設(shè)備所使用的真空泵組可分為三類(lèi)。一種是旋葉式真空泵和根真空泵的油泵組。另一種是螺桿泵+羅茨真空泵干泵組;還有分子泵+分子泵機(jī)械泵組。

這種情況下的等離子處理有以下效果： 1.1 灰化表面的有機(jī)層- 表面受到化學(xué)沖擊（下方有氧氣） -在真空和臨時(shí)高溫下污染物的部分蒸發(fā)-污染物被高能離子的沖擊破碎并通過(guò)真空進(jìn)行-紫外線輻射破壞污染物等離子處理只能滲透到每秒幾納米的厚度，pe附著力促進(jìn)劑的合成所以污染層的厚度不能太厚。指紋也可以。 1.2 氧化物去除金屬氧化物與工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)（下）該工藝應(yīng)使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。也可以使用兩步處理過(guò)程。