圖一 水平式等離子清洗機原理示意圖CCP典型放電條件：①壓強10Pa-100Pa；②電極間距1cm-5cm；③高頻功率20W-200W，超強反應活性附著力助劑生成等離子體密度約為1016m-3量級CCP放電優勢：能夠較容易生成大口徑等離子體，放電現象較為穩定。
等離子體火焰處理器對雙陶瓷基板平臺結構有集中等離子體的作用:金剛石具有高硬度、熱導率、化學穩定性和光學透過率等理化性能，附著力助劑電鍍面這些優良的性能，等離子火焰處理器使金剛石成為許多領域的理想材料。例如，它可以用作電子束提取窗口、高頻大功率電子器件、高靈敏的聲表面波濾波器、切割工具等。
低溫等離子清洗機三種比較常見的處理方法:1。低溫等離子體清洗機表面刻蝕在低溫等離子體的影響下，附著力助劑電鍍面數據表面的一些離子鍵斷裂，導致小分子產物或氧化成一氧化碳。一氧化碳:等。這些產品被空氣提取過程吸走，使數據外觀不均勻，提高表面粗糙度。低溫等離子體清洗機表面活化低溫等離子體處理后，耐火塑料制品表面發現了一些特定的原子、自由基和不飽和鍵。這些特異官能團與等離子體中的特異粒子接觸，會發生反應，產生新的特異官能團。
微波能量和磁場強度是電子回旋共振等離子體刻蝕室的兩個重要調節參數。等離子體密度可以通過微波能量來確定，附著力助劑電鍍面等離子體產生區與晶圓之間的距離可以通過調節磁場強度來調節，即磁場強度為875G的電子共振區位置。可以改變離子的能量分布和入射角分布。低壓是等離子體的發展方向之一。在較低的壓力下，離子在轟擊到晶圓之前碰撞更少，從而減少散射碰撞，優化離子入射角，獲得更準確的刻蝕結果。
附著力助劑電鍍面
一般同類粒子之間的碰撞概率比較大，能量轉移有用，容易通過碰撞達到平衡態。它們各自遵守麥克斯韋分布，有各自的熱力學平衡溫度。例如，電子-電子碰撞在一定溫度Te下達到熱力學平衡，稱為電子溫度。離子-離子碰撞到熱力學平衡有一定的溫度Ti，稱為離子溫度。但由于電子和離子質量的懸殊，雖然也會發生碰撞，但不一定達到平衡，所以Te和Ti不一定相同。
超強反應活性附著力助劑
