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經過等離子體處理的物體表面往往形成許多新的活性基團，漆膜附著力劃格試驗標準使物體表面發生“活化”而改變性能，可以大大改善物體表面的浸潤性能和黏著性能，這對許多材料是非常重要的。。在等離子除膠機的增強刻蝕中，當高能顆粒撞擊表面時，表面會形成缺陷、位錯或懸浮。這些缺陷提高了表面的化學反應刻蝕速率，使得這種等離子除膠機的刻蝕過程具有選擇性和方向性。
它既可運用熱水清洗，附著力劃圈法圖片也可運用冷水清洗，根據被清洗物體不同挑選不同的清洗方法。這種高壓等離子清洗機，它的高壓泵的質量更好，結構也較凌亂，造價也較高，是高端用戶的挑選。。常用的等離子體激發頻率有三種：激發頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。
主要控制要求是光致抗蝕劑壓下工藝各周期壓下尺寸的均勻性、邊緣粗糙度控制、整片晶圓上壓下尺寸的均勻性、SiO2/Si3N4蝕刻工藝中光致抗蝕劑的選擇性。臺階寬度的精度決定了后續接觸孔能否正確連接到指定的控制網格層。由于要求每一步的寬度（即每一個控制柵層的延伸尺寸）為數百納米，附著力劃圈法圖片以便后續的接觸孔能夠安全、準確地落在所需的控制柵層上，因此循環工藝中的每一個光刻膠掩模層縮減工藝需要單邊縮減數百納米。
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這些新的自由基也以高能態存在，極不穩定，極易分解，變化如下。新的自由基與較小的自由基同時產生。這個過程一直持續到它分解成穩定的、易揮發的、簡單的小分子，最終從金屬表面釋放污染物。在這個過程中，大量的結合能在自由基與表面污垢分子結合的過程中釋放出來，出現在自由基活化過程中的能量轉移中，釋放的能量引起表面污垢新的活化反應。用于促進的分子。在等離子體激活下促進更徹底去除污染物的能力。
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