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等離子體輔助清洗技能是一種先進制造工業中的精密清洗技能,江蘇真空等離子處理機說明書在許多工業領域都能夠運用到這種清洗技能,下面為大家介紹一下,等離子清洗機清洗技能在半導體制造中的運用。 化學氣相堆積(CVD)和刻蝕被廣泛運用于半導體加工過程中,運用CVD能夠堆積多晶硅薄膜、氮化硅薄膜、二氧化硅薄膜和金屬薄膜(如鎢)。此外,微三級管及電路中起銜接效果的細導線也是在絕緣層上通過CVD工藝制成的。

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