清洗過程分五個步驟：等離子產生，鍍鋅附著力與鋅純度關系等離子向物體表面擴散，和被清洗材料發生反應，得到易揮發的產物，脫離材料表面，產物被抽走。
因此，鍍鋅附著力試驗步驟如果發現等離子體表面墊圈的側壁蝕刻的主蝕刻步驟的終點監測被暴露，則立即停止蝕刻并切換過蝕刻步驟。主刻蝕步驟中殘留的氮化硅膜通過過刻蝕步驟被刻蝕去除，同時停止在氧化硅膜上，以防止損壞下面的硅襯底。過蝕刻步驟通常使用 CH3F 或 CH2F2 和 O2 氣體的組合。 CH3F 氣體分解為 CHx 和 F. + H。等離子體中的撞擊離子會破壞 Si-O 鍵。
循環過程 還原過程單方面需要數百納米。蝕刻氣體，鍍鋅附著力試驗步驟主要是 O2，通常用于實現足夠高的還原率。在循環刻蝕過程中，SiO2和Si3N4同時被刻蝕，并停止在下SiO2表面。由于需要選擇比，通常將其分解為 SiO2。蝕刻（相對低的選擇性）步驟和 Si3N4 蝕刻。后者需要對 SiO2 具有高選擇性，以便在下面的 SiO2 表面停止。
在線等離子清洗機等離子清洗在LED封裝工藝中的應用：發光二極管 (LED)一般用作指示燈、顯示板，鍍鋅附著力試驗步驟它不但能夠高效率地直接將電能轉化為光能，而且擁有長達數萬小時至數十萬小時的使用壽命，同時具備不易碎省電等優點。。在線等離子清洗機的清洗原理： 等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。
鍍鋅附著力試驗步驟
從力學的角度來看，等離子清洗一般包括以下過程：將無機氣體激發成等離子狀態；將氣相物質吸附到固體表面；吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子。將產物分子分解成氣體的相；從表面去除反應殘留物。
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用氧氣等離子清洗，其中氧氣主要與污染物發生氧化反應，特別是對有機污染物效果尤為明顯，清洗過程反應式如下：O2*+有機物→CO2 +H2O （4）式（4）表明，處于激發態的氧氣分子與有機物發生反應，生成CO2和水蒸氣，對有機污染物比較有效。另一方面，由于O2作為典型的反應性氣體，本身具有很強的化學活性，可直接與聚合物表面的分子鏈結合，改變材料表面的化學組成和性質。
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