惰性氣體，羧基和羥基親水性比較如氬或氦，由于它們惰性的化學性質，不會與表面化學反應結合或進行表面化學反應。相反，它們通過傳遞能量來破壞聚合物鏈中的化學鍵。中斷的聚合物鏈產生懸浮鍵，可與活性部分重新結合，導致顯著的分子重組和交聯。高分子表面懸浮鍵易于接枝，已被應用于生物醫學技術。活化是等離子體化學基團取代表面聚合物基團的過程。等離子體打破聚合物中的弱鍵，用等離子體中的高活性堿、羧基和羥基取代。

由真空泵等離子形成的高電壓高頻率動能，羧基和羥基親水性比較在噴嘴和受控輝光放電中形成低溫真空泵等離子，通過壓縮空氣將真空泵等離子噴射至工件表面，真空泵等離子與被處理物品表面層出現化學作用和物理變化，去除碳化氫類污垢。建立羥基、羧基等自由基團，對各種涂層材料有促進粘結的作用，優化了粘結和油漆應用。

等離子體發生器設備帶來的高壓、高頻能量，羧基和羥基親水性通過在噴嘴鋼管上輝光放電來激活和控制，形成低溫等離子體。等離子體與被加工物體表面接觸，在壓縮氣體的應用中產生變化和化學反應。清潔表面，去除氫的碳化氫污垢，如油脂、助劑等，或帶來腐蝕而非常粗糙，或形成致密的交聯層，或引入氧極性基團(羥基、羧基)，兩者都促進了各類涂料材料的應用，并對膠粘劑和涂層進行了優化。

而這些特性在手機、電視、微電子、半導體、醫藥、航空、汽車等各個行業都得到了很好的應用，羧基和羥基親水性比較解決了很多企業多年沒有解決的問題。要解決的問題。因此，等離子清潔劑不會洗掉所有的污垢，而是旨在去除某些物質并修飾材料表面。。等離子表面處理設備可引入氨基、羧基等官能團，用于醫用材料的表面處理。在等離子表面處理設備的影響下，很難附著許多活性原子結構、自由基、不飽和鍵。塑料表面。等離子體中的活性粒子接觸形成新的活性官能團。

羧基和羥基親水性比較

（C）形成新的官能團，化學作用如果放電氣體中引入反應性氣體，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，在活化的材料表面會發生復雜的化學反應，這些官能團都是活性基團，明顯提高材料表面活性。。大家熟悉的知道等離子體進行材料表面改性的方法有三種：1.等離子體聚合：材料暴露于聚合性氣體（有機氣體），等離子體表面會沉積一層聚合物，沉積一般啊是很薄的，并且對熱和化學作用穩定，對基材有一定的粘附力。

每小時一臺等離子表面處理器，大大降低了成本。等離子脫鍍清洗機通過等離子輝光反應保證脫鍍密度高，低溫等離子獲得更好的表面活化效果。清潔表面有機物、樹脂、灰塵、油脂、雜質等，增加表面能量。材料經改性后表面粗糙，蝕刻后表面凸出它增大，表面積增大。介紹了含有羥基、羧基等氧極性基團的活性分子。等離子清洗機用于去電鍍表面處理，能有效去除有缺陷的涂層。用于玻璃蓋板、觸摸屏、防護片、光學材料、電子電路等工業鍍膜次品的修補。

等離子體清洗的過程中不使用化學試劑，所以不會造成二次污染，清洗設備可重復性強，所以設備的運行成本比較低，而且操作靈活簡單，可以實現對金屬表面的整體或某些局部及復雜結構的清洗；有些經過等離子體清洗后的表面性能還可以得到改善，有助于金屬的后續加工應用。等離子體清洗的機理 等離子體中處理存在著大量的氣體分子、電子和離子外，還存在大量受激發的中性原子、原子團自由基及等離子體射出的光線。

常壓等離子體清洗的溫度比較高，但常壓等離子體大多安裝在流水線上，物料一個接一個通過，不會在噴槍下停留很長時間。所以溫度太高了。如果停留時間過長，哪怕只有幾秒鐘，溫度也會急劇上升。也是因為溫度高，所以一般易碎的東西都用真空機洗。真空等離子清洗機沒那么復雜。根據電源的頻率，以40kHz和13.56MHz為例：正常情況下，材料放入腔體工作，頻率為40kHz，一般溫度在65以下。而且，該機配備了強勁的散熱風扇。

羧基和羥基親水性比較

典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗，羧基和羥基親水性氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。以化學反應為主的等離子清洗的優點是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點是會在表面產生氧化物。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣、氫氣等離子清洗。通過等離子體產生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發生，產生二氧化碳，一氧化碳和水等易揮發物，從而去除表面的污染物。