不同等離子體產生的自偏壓不一樣，隧道內的附著力減小超聲等離子體的自偏壓為 0V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發生的反應為物理反應，射頻等離子體發生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體發生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產生的影響最大，因而實際半導體生產應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。
（3）在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，隧道內的附著力為什么減小使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發生離子化和產生等離子體。讓在真空室產生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開始清洗作業。一般清洗處理持續幾十秒到幾分鐘。（4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時向真空室內鼓入氣體，并使氣壓升至一個大氣壓。
原子團等自由基與物體表面的反應： 由于這些自由基呈電重型，隧道內的附著力為什么減小存在壽命較長，而且在離子體中的數量多于離子，因此自由基在等離子體中發揮著重要作用，自由基的作用主要表現在化學反應過程中能量傳遞的"活化"作用，處于激發狀態的自由基具有較高的能量，因此易于與物體表面分子結合時會形成新的自由基，新形成的自由基同樣處于不穩定的高能量狀態，很可能發生分解反應，在變成較小分子同時生成新的自由基，這種反應過程還可能繼續進行下去，最后分解成水、二氧化碳之類的簡單分子。
今天給大家普及一下等離子清洗電源的頻率知識，隧道內的附著力減小40KHZ電源，也就是俗稱的中頻電源，簡單的說能量高，但等離子密度低。真空等離子清洗基本選用中頻電源。這是由于真空腔體尺寸大（通常大于 L，電極板數量較多，相對于射頻中頻來說是高輸出電源。5000W、10KW、20KW等本身更穩定）產生的等離子體中的分子和離子具有高動能，高滲透性，強調物理反應。
隧道內的附著力減小
因此，一方面需要較高的外加電壓才能在大氣壓下產生氣體擊穿；另一方面，即使在高外加電壓條件下發生氣體擊穿過程，在如此高的電場強度下，強烈的電子雪崩效應也會使放電迅速進入燈絲放電或電弧放電模式，因此很難獲得溫度接近室溫的均勻輝光放電等離子體。。等離子清洗機是利用等離子高能將等離子集中于等離子表面改性，或等離子表面處理的應用。等離子體清洗是利用等離子體的高能量和不穩定性。
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