在對液晶玻璃采用等離子清洗機使用的活化氣體是氧的等離子體，氧等離子體處理管材表面它能除去油性污垢和有機污染物粒子，因為氧等離子體可將有機物氧化并形成氣體排出。通過洗凈工藝后的電極子與顯示器，增強了偏光板粘貼的成品率，并且電極與導電膜間的粘附性也大大改善，從而改善了產(chǎn)品的質(zhì)量及其穩(wěn)定性 等離子體清洗機對 LCD玻璃進行清洗，不僅能去除了雜質(zhì)顆粒，提高了材料的表面能，還促進產(chǎn)品的成品率出現(xiàn)數(shù)量級的提高。。

顯示屏/AMOLED顯示屏在涂膠過程中需要進行清潔和修改。在液晶玻璃的等離子清洗中，氧等離子體處理工藝用于去除金屬顆粒等污染物的活性氣體是氧等離子體。由于等離子清洗機的活性表面性能，可以使親水處理設(shè)備無污染。有效去除油和有機污染物。廣泛用于激活等離子清洗機的表面性能： 1.等離子清洗機的表面活化/清洗； 2.等離子清洗劑處理后粘接； 3.等離子清洗劑蝕刻/活化； n4。等離子清洗機去除粘合劑；五。

1．導尿管的處理導尿管給需要留置導尿的患者帶來了福音，氧等離子體處理管材表面在臨床上的應用越來越廣，但隨著其應用的增多，導尿管拔除困難的情況也越來越常見。特別是長期留置的導尿管，有時由于橡膠的老化會造成氣囊管腔的阻塞，強行拔除時可能會引起嚴重的并發(fā)癥。為了防止硅橡膠與人體接觸表面的老化，需要對其表面進行氧等離子處理。

下圖為針座在等離子清洗機中進行表面清洗活化處理。6.4.2導尿管的處理導尿管給需要留置導尿的患者帶來了福音，氧等離子體處理工藝在臨床上的應用越來越廣，但隨著其應用的增多，導尿管拔除困難的情況也越來越常見。特別是長期留置的導尿管，有時由于橡膠的老化會造成氣囊管腔的阻塞，強行拔除時可能會引起嚴重的并發(fā)癥。為了防止硅橡膠與人體接觸表面的老化，需要對其表面進行氧等離子處理。

氧等離子體處理管材表面

粒子濃度和能量分布對等離子清洗器的蝕刻速率、各向異性指數(shù)和選擇性有顯著影響。這些氧等離子體表面處理設(shè)備中的顆粒濃度由幾種常見的物理和化學過程決定。這包括電子-離子對的形成、自由基的形成、負離子的形成和氣相化學。這是一個完整的氧等離子體表面處理裝置的反應過程，用下式表示。

氧低溫等離子設(shè)備的等離子清洗可以去除真空沉積形成的金島膜表面的大部分非晶碳雜質(zhì)。清潔的基板可以更好地保留針對其他分子的 SERS 活性。此外，較少的清潔會削弱 SERS 信號。 ..因此，氧等離子清洗是去除金島膜表面雜質(zhì)的有效方法。。清潔太陽能電池背板以提高親水附著力的低溫等離子裝置：在能源問題日益突出的當今環(huán)境下，太陽能作為可再生能源是各國不斷關(guān)注研究的新能源。太陽能電池利用光伏效應。

PCB 制造商使用等離子清潔劑蝕刻系統(tǒng)進行去污和蝕刻，以去除鉆孔中的絕緣層并最終提高產(chǎn)品質(zhì)量。 6.半導體行業(yè)中的半導體/LED解決方案等離子清洗機應用基于各種元件和集成電路的連接線的精細度，使其在加工過程中容易產(chǎn)生灰塵和有機污染。晶圓容易損壞和短路，因此等離子表面處理機被引入到后續(xù)的預處理工藝中，以消除這些工藝帶來的問題。

等離子體刻蝕機是一種多功能等離子表面處理設(shè)備，可配備不同的部件，如表面鍍涂、蝕刻、等離子化學反應、粉末等離子處理等。等離子體刻蝕機對晶片的蝕刻效果好。通過配置蝕刻部件，等離子清洗機可以實現(xiàn)蝕刻功能，性價比高，操作簡單，從而實現(xiàn)多功能。 半導體的通過等離子體刻蝕機工藝將圖案復制到多晶硅等質(zhì)地的基底薄膜上，從而形成晶體管門電路，同時用鋁或銅實現(xiàn)元器件之間的互連，或用SiO2來阻斷互連路徑。

氧等離子體處理工藝

等離子體表面處理技術(shù)作為高品質(zhì)，氧等離子體處理管材表面無VOCs, 無化學排放的基本前提的工藝處理。除了在上述的一些代表性的關(guān)鍵領(lǐng)域進行運用，還深入到汽車制造中更多的領(lǐng)域，因此被業(yè)界的生廠商們所采用，成為了現(xiàn)在各個生產(chǎn)流程比不可少的一部分。。基于大眾審美和市場需求，越來越多終端產(chǎn)品的屏占比指標日益加重，各種“窄邊框”、“超窄邊框”、“無邊框”概念也在行業(yè)中風靡，消費者對其追求絲毫不亞于金屬和玻璃機身。

與La2O3/Y-Al2O3催化劑不同，氧等離子體處理管材表面Nd2O3/Y-Al2O3催化劑容易吸附含氧自由基，催化劑表面的甲基自由基容易被含氧自由基氧化生成CO。在CO2氧化CH4為C2烴的反應中，CeO2/Y-Al2O3和等離子表面處理共同表現(xiàn)出良好的催化活性。這與催化 CH4 氧化偶聯(lián)中的 CeO2 / Y-Al2O3 一致。對反應的影響明顯不同。