C2烴選擇性結果與鑭系催化劑對C2烴收率的影響相比，邊滾邊滑的附著力大不大兩者的順序大致相同，盡管La2O3/Y-Al2O3催化劑與電漿清洗機等離子體共同應用下甲烷轉化率較低，但由于C2烴選擇性高于70%，所以C2烴收率高于其他稀土催化劑。這與La2O3催化劑在單純催化條件下的高C2烴選擇性較為一致。不過鑭系催化劑對C2烴產物分布影響不大，C2H2是主要的C2烴產物。。
由于大氣壓下等離子體高能電子能的降低，邊滾邊滑的附著力大不大C-H進一步斷裂不利于碳沉積的減少和C2烴選擇性的增加。增加放電空間和降低高能電子平均能量的共同作用是CH4轉化率降低，C2烴選擇性提高，C2烴產率變化不大。。大氣壓等離子清洗機處理器有四大優點等離子清洗機設備廣泛應用于電子/手機/電視/半導體等專業領域。不同行業或原料所使用的等離子表面處理設備類型也有所不同。
自動模式：預置自動模式：適用于點火位置與匹配位置相差較大的系統1.根據需要連接系統2.切換到預設、自動、運行3.在自動狀態和預設狀態下，邊滾邊滑的附著力大不大關閉射頻，調整Ca Cb的位置，使其處于點火位置4.打開射頻5.自動匹配保持狀態下的自動模式：適用于點火位置與匹配位置相差不大的系統1.根據需要連接系統2.切換到保持、自動、運行3.打開射頻。
常用的有氫氣、氧氣、氬氣等。每種氣體的性質不同，邊滾邊滑的附著力大不大所能達到的效果也不同。經常使用混合氣體。大氣壓等離子常用于普通壓縮空氣，當然也可以連接氮氣。例如，在電暈機上，如果您有特殊要求，可以連接到氮氣處理。國內很多公司都做不到。這是一個過程，但好消息是東信可以做到。三是清潔溫度。雖然大氣等離子清洗的溫度比較高，但大氣等離子主要安裝在流水線上，物料一個個通過，不會長時間停留在噴槍下。
附著力大于等于5級
等離子體處理過程包括化學反應和物理反應。化學過程:在化學等離子體過程中，自由基與被清洗物體表面的元素發生化學反應的反應。這些反應的產物是非常小的、易揮發的分子，可以用真空泵泵出。在有機清潔應用中，主要的副產品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化學反應的等離子體清洗，清洗速度快，選擇性好，是去除有機污染物最有效的。缺點是氧化發生在表面。
氣體團簇在電子的轟擊下，可以電離化，而電離化的氣體團簇在電場的作用下獲得很大的動能，也可以在磁場的作用下進行過濾，進而得到能量分布更為集中的氣體團簇離子束。等離子表面處理機氣體團簇離子束在加速電極的作用下可以獲得很高的能量，在一個局部區域形成較高的能量密度，在目標材質表面附近激發很多種物理和化學反應。但是團簇中每個粒子的速度相間，每個粒子的平均能量很低。
電荷集在電荷運動軌跡未到達的地方聚集，直接導致電荷也被電離。之后，霧狀區域內的電荷載流子也隨之崩塌，成為離子軌道。這種離子軌道有很好的導電性，就是電流流到電路接地端時釋放出電荷。在這一區域發生放電之后，plasma軌道消失，或者沿著一個特定的方向移動到其他區域，這個區域隨后就被充電。當發光球體內部有足夠的電流時，離子軌跡會一直存在。。汽車業的發展，對性能的規定也在持續增強。
應用等離子清洗機,起源于20世紀初,與高新技術產業的快速發展,其應用越來越廣泛,已在許多高科技領域,在狀態的關鍵技術,等離子清洗技術行業在經濟和人類文明最偉大的效果,第一電子信息產業，特別是半導體和光伏產業。等離子清洗機已經應用到各種電子元器件的制造中，可以肯定的是，沒有等離子清洗機及其清洗技術，就不會有今天如此發達的電子、信息和通信行業。
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